[发明专利]一种阵列基板的制造方法、阵列基板及显示装置

摘要

本发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板及显示装置，以减少彩膜工艺的加工工序，并进一步减少显示装置的制造工序，节省生产成本和时间。阵列基板的制造方法包括在衬底基板上形成薄膜晶体管；通过半色调掩模构图工艺，在薄膜晶体管的前侧形成具有过孔的钝化层，及在所述钝化层的前侧形成隔垫物。采用该方法制造阵列基板，无需在彩膜基板背侧制备隔垫物，减少了彩膜工艺的加工工序，进而减少了显示装置的制备工序，节省了生产成本和加工时间。

主权项

一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管；通过半色调掩模构图工艺，在薄膜晶体管的前侧形成具有过孔的钝化层，及在所述钝化层的前侧形成隔垫物；所述制造方法还包括：在所述隔垫物的前侧形成覆盖所述隔垫物表面的保护层；在形成所述保护层的同时，形成与所述保护层材质相同的像素电极，所述像素电极穿过所述过孔与所述薄膜晶体管的源极连接；其中，所述通过半色调掩模构图工艺，在薄膜晶体管的前侧形成具有过孔的钝化层，及在所述钝化层的前侧形成隔垫物，具体包括：在薄膜晶体管前侧形成钝化层薄膜；在钝化层薄膜前侧形成光刻胶；使用具有全透光区、半透光区和遮光区的掩模板对基板进行曝光，其中，全透光区与基板预形成过孔的区域位置相对，遮光区与基板预形成隔垫物的区域位置相对；对曝光后的基板进行显影处理；对显影处理后的基板进行刻蚀和灰化处理，形成具有过孔的钝化层及在所述钝化层的前侧形成隔垫物。