[发明专利]一种用于合成多种形貌的g-C3N4纳米材料的方法在审
| 申请号： | 201610139398.6 | 申请日： | 2016-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN105692572A | 公开（公告）日： | 2016-06-22 |
| 发明（设计）人： | 赵慧敏;甘小荣;全燮;张耀斌;陈硕 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | C01B21/082 | 分类号： | C01B21/082;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人： | 温福雪;李宝元 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明为一种用于合成多种形貌的g-C3N4纳米材料的方法，属于材料合成领域。本发明基于溶剂热合成法，在温度不低于170℃条件下，甲酰胺分子聚合形成g-C3N4纳米材料。通过调控反应时间，时间不少于0.5h或者反应温度高低，合成的g-C3N4纳米材料的形貌可为纳米片、纳米线和纳米纤维。本合成方法对g-C3N4纳米材料的形貌、尺寸和厚度可控，合成工艺简单，无繁琐的后处理步骤。本发明解决了不同形貌或维度的g-C3N4纳米材料需要不同合成方法的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 合成 多种 形貌 sub 纳米 材料 方法 | ||
【主权项】：
一种用于合成多种形貌的g‑C3N4纳米材料的方法，其特征在于，步骤如下：将甲酰胺置于聚四氟乙烯反应器中，保证其体积占聚四氟乙烯反应器体积的60‑80％；1)反应温度为170‑220℃，反应时间为0.5‑8h，所得g‑C3N4纳米材料形貌以纳米片为主，平均厚度为0.75nm，其平均长度200nm，平均宽度为20nm；2)反应温度范围在170‑220℃，反应时间在8‑12h，所得g‑C3N4纳米材料形貌以纳米线为主，平均厚度为1.5nm，其平均长度为900nm，平均宽度为60nm；3)反应温度不低于220℃，反应时间不少于12h，所得g‑C3N4纳米材料形貌以纳米纤维为主，平均厚度为1.75nm，其平均长度为5μm，平均宽度为70nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学，未经大连理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610139398.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
