[发明专利]一种反应腔室的清洗方法在审
| 申请号： | 201610143848.9 | 申请日： | 2016-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN107195523A | 公开（公告）日： | 2017-09-22 |
| 发明（设计）人： | 李国荣;黄亚辉;张兴 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司;北京大学 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100026 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种反应腔室的清洗方法，涉及半导体技术领域，能够有效清除反应腔室中的副产物。该反应腔室的清洗方法采用清洗气体在射频电源作用下起辉以实现清除沉积在反应腔室内壁上的副产物，该反应腔室的清洗方法包括对所述反应腔室内壁的不同区域进行清洗的至少两个主清洗步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反应 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种反应腔室的清洗方法，采用清洗气体在射频电源作用下起辉以实现清除沉积在反应腔室内壁上的副产物，其特征在于，包括对所述反应腔室内壁的不同区域进行清洗的至少两个主清洗步骤。
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