[发明专利]曝光装置及曝光方法

摘要

衬底处理装置(EX)包括：投影光学系统(PL)，使从照明区域(IR)产生的反射光束(L2)向衬底投射，从而在衬底形成光罩图案的像；光分离部(10)，使朝向照明区域的照明光和从照明区域产生的成像光束中的一方通过而使另一方反射；和照明光学系统(IL)，形成一次光源像，并将来自一次光源像的照明光照射于照明区域，并且在中心线与圆筒面之间形成与一次光源像光学共轭的第1共轭面。

主权项

1.一种曝光装置，使沿着圆筒面配置的反射性的光罩图案的像在感应性衬底上投影曝光，所述圆筒面是围绕规定的中心线以规定的半径弯曲而成的，所述曝光装置的特征在于，包括：光罩保持部件，沿着所述圆筒面保持所述光罩图案，并能够围绕所述中心线旋转；照明光学系统，使来自光源的照明光朝着设定在所述光罩图案上的一部分上的照明区域照射，并且以使得在所述圆筒面的周向分布的所述照明光的主光线的延长线朝向所述中心线与所述圆筒面之间的规定位置的方式使所述主光线关于所述圆筒面的周向倾斜；以及投影光学系统，被射入从所述照明区域产生的反射光束，并使所述光罩图案的一部分的像成像在所述感应性衬底上，所述投影光学系统包括第1投影光学系统、凹面镜和第2投影光学系统，所述第1投影光学系统将从所述照明区域产生的所述反射光束引导至中间像面，并在所述中间像面形成所述光罩图案的一部分的像；所述凹面镜配置在所述中间像面的位置或其附近；所述第2投影光学系统被射入在所述凹面镜反射的所述反射光束，将形成在所述中间像面上的像投影于所述感应性衬底。