[发明专利]一种光固化材料及其应用有效

专利信息
申请号: 201610149725.6 申请日: 2016-03-16
公开(公告)号: CN105601830B 公开(公告)日: 2018-10-02
发明(设计)人: 何流;裴学良;季鹏;苗玉龙;杨建行;黄庆 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: C08F283/00 分类号: C08F283/00;C08F222/20;C08G77/60;C09D183/16;C09D7/61;C09D7/65;C04B35/565;C04B35/622
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 刘诚午
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种光固化材料,包括如下组分:超支化聚碳硅烷60‑98wt%;活性稀释剂0‑35wt%;光引发剂0.1‑8wt%;添加剂0‑10wt%;超支化聚碳硅烷是含不饱和双键的超支化聚碳硅烷,超支化聚碳硅烷的数均分子量介于300‑15000;不饱和双键为丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基或烯丙基,超支化聚碳硅烷中不饱和双键的含量为1‑30wt%。本发明还涉及光固化材料用于光固化3D打印的应用以及制备SiC构件的应用。本发明所述的光固化材料黏度较低,便于从3D打印设备的喷头中喷射出来,并且固化速度快,固化时收缩率很小。
搜索关键词: 一种 光固化 材料 及其 应用
【主权项】:
1.一种光固化材料用于光固化3D打印的应用,所述光固化材料,包括如下组分:所述的超支化聚碳硅烷是含不饱和双键的超支化聚碳硅烷,超支化聚碳硅烷的数均分子量介于300‑15000;所述的不饱和双键为丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基或烯丙基,超支化聚碳硅烷中不饱和双键的含量为1‑30wt%。
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