[发明专利]产生掩膜图案的系统和方法以及曝光系统有效
申请号: | 201610158206.6 | 申请日: | 2016-03-18 |
公开(公告)号: | CN105607413B | 公开(公告)日: | 2019-11-01 |
发明(设计)人: | 李太亮;孙俊民;丁洪利;关红涛 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/76 | 分类号: | G03F1/76;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 范心田 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种产生掩膜图案的系统、一种产生掩膜图案方法以及一种曝光系统。根据本发明实施例,用于产生掩膜图案的系统,包括:掩膜图案提供设备,配置为通过有线或无线网络提供掩膜图案信号;掩膜图案传送设备,配置为对掩膜图案提供设备提供的掩膜图案信号进行处理,以产生掩膜图案信息,并且通过射频标识“RFID”信号传送产生的掩膜图案信息;以及掩膜图案产生设备,配置为基于掩膜图案信息,产生与掩膜图案信息对应的掩膜图案并显示。在本申请实施例中,利用物联网技术实现了掩膜图案提供设备(本地PC或移动设备)与掩膜图案产生设备之间的交互,使得掩膜图案产生设备通过电子墨水屏显示多种不同掩膜图案,从而实现了快速方面、低成本的曝光方式。 | ||
搜索关键词: | 产生 图案 系统 方法 以及 曝光 | ||
【主权项】:
1.一种用于产生掩膜图案的系统,包括:掩膜图案提供设备,配置为通过有线或无线网络提供掩膜图案信号;掩膜图案传送设备,配置为对所述掩膜图案提供设备提供的所述掩膜图案信号进行处理,以产生掩膜图案信息,并且通过射频标识“RFID”信号传送产生的掩膜图案信息;以及掩膜图案产生设备,配置为基于所述掩膜图案信息,产生与所述掩膜图案信息对应的掩膜图案并显示;其中,所述掩膜图案传送设备包括RFID控制器,配置为向所述掩膜图案产生设备发送所述RFID信号,以向所述掩膜图案产生设备供电并传送所述掩膜图案信息,其中所述RFID信号包括所述掩膜图案信息和用于对所述掩膜图案产生设备供电的电能信号。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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