[发明专利]双自由度MEMS压电梁结构在审

专利信息
申请号: 201610160263.8 申请日: 2016-03-21
公开(公告)号: CN105823904A 公开(公告)日: 2016-08-03
发明(设计)人: 司朝伟;韩国威;赵永梅;宁瑾;杨富华 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: G01P15/09 分类号: G01P15/09;G01C19/5656
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种双自由度MEMS压电梁结构,包括:一衬底电极,该衬底电极为矩形;一锚点,其制作在衬底电极背面纵向的一侧;一第一压电层,其制作在衬底电极上;一夹层电极,其制作在第一压电层上;一第二压电层,其制作在夹层电极上;一第一上电极,其制作在第二压电层上横向的一侧,其宽度小于第二压电层的二分之一;一第二上电极,其制作在第二压电层上横向的另一侧;一第三上电极,其制作在第二压电层上横向的中间;该第一上电极、第二上电极和第三上电极不接触。本发明具有正交误差小、机电转换效率高的特点。
搜索关键词: 自由度 mems 压电 结构
【主权项】:
一种双自由度MEMS压电梁结构,包括:一衬底电极,该衬底电极为矩形;一锚点,其制作在衬底电极背面纵向的一侧;一第一压电层,其制作在衬底电极上;一夹层电极,其制作在第一压电层上;一第二压电层,其制作在夹层电极上;一第一上电极,其制作在第二压电层上横向的一侧,其宽度小于第二压电层的二分之一;一第二上电极,其制作在第二压电层上横向的另一侧;一第三上电极,其制作在第二压电层上横向的中间,该第一上电极、第二上电极和第三上电极不接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610160263.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top