[发明专利]泡沫金刚石骨架增强铜基复合材料及制备方法有效
申请号: | 201610162466.0 | 申请日: | 2016-03-21 |
公开(公告)号: | CN105779805B | 公开(公告)日: | 2017-10-31 |
发明(设计)人: | 魏秋平;周科朝;马莉;余志明;张龙 | 申请(专利权)人: | 中南大学 |
主分类号: | C22C1/08 | 分类号: | C22C1/08;C22C9/00 |
代理公司: | 长沙市融智专利事务所43114 | 代理人: | 颜勇 |
地址: | 410083 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明提供一种泡沫金刚石骨架增强铜基复合材料及其制备方法,所述复合材料由泡沫衬底、金刚石强化层、基体材料组成。其中泡沫衬底为泡沫金属或泡沫陶瓷或泡沫碳,基体材料为铜及其合金,金刚石强化层为金刚石或金刚石与石墨烯或/和碳纳米管。本发明制得的复合材料增强相与基体相在三维空间内保持连续分布,使金刚石和基体形成了网络互穿构形,从而可弱化复合界面对材料热学性能的显著影响,既能不降低金属基体在复合材料中的良好塑韧性,又能使增强相成为一个整体,最大限度地发挥增强体的导热效率,使复合材料的热导率、电导率及机械强度相比较传统复合材料有极大提高,是一种很有潜力的新型多功能复合材料。 | ||
搜索关键词: | 泡沫 金刚石 骨架 增强 复合材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
泡沫金刚石骨架增强铜基复合材料,其特征在于,所述复合材料包括增强体、基体材料,所述增强体包括泡沫骨架衬底、金刚石强化层,所述泡沫骨架衬底表面设有金刚石强化层;所述泡沫骨架衬底选自泡沫金属骨架、泡沫陶瓷骨架、泡沫碳骨架中的至少一种,所述基体材料选自铜及铜基合金;所述金刚石强化层选自金刚石膜、石墨烯包覆金刚石、碳纳米管包覆金刚石、石墨烯/碳纳米管包覆金刚石中的至少一种;所述复合材料制备方法,包括下述步骤第一步:增强体的制备将泡沫骨架衬底清洗、烘干后,采用化学气相沉积在泡沫骨架表面原位生长金刚石,得到增强体;沉积参数为:沉积金刚石膜:含碳气体占炉内全部气体质量流量百分比为0.5‑10.0%;生长温度为600‑1000℃,生长气压为103‑104Pa;或将泡沫骨架衬底清洗、烘干后,采用化学气相沉积在泡沫骨架表面原位生长石墨烯包覆金刚石、碳纳米管包覆金刚石、石墨烯/碳纳米管包覆金刚石,沉积过程中在泡沫骨架衬底上施加等离子辅助生长,并通过在衬底底部添加磁场把等离子体约束在泡沫骨架近表面,强化等离子对泡沫骨架表面的轰击,使石墨烯垂直于泡沫骨架表面生长,形成石墨烯墙,得到增强体;沉积工艺为:沉积石墨烯墙:含碳气体占炉内全部气体质量流量百分比为0.5‑80%;生长温度为400‑1200℃,生长气压为5‑105Pa;等离子电流密度为0‑50mA/cm2;沉积区域中磁场强度为100高斯至30特斯拉;沉积石墨烯包覆金刚石:首先,采用化学气相沉积技术在衬底表面沉积金刚石,沉积参数为:含碳气体占炉内全部气体质量流量百分比为0.5‑10.0%;生长温度为600‑1000℃,生长气压为103‑104Pa;然后,再在金刚石表面沉积石墨烯墙,石墨烯垂直于金刚石表面生长,形成石墨烯墙,沉积参数为:含碳气体占炉内全部气体质量流量百分比为0.5‑80%;生长温度为400‑1200℃,生长气压为5‑105Pa;等离子电流密度为0‑50mA/cm2;沉积区域中磁场强度为100高斯至30特斯拉;沉积碳纳米管包覆金刚石:首先,采用化学气相沉积技术在衬底表面沉积金刚石,沉积参数为:含碳气体占炉内全部气体质量流量百分比为0.5‑10.0%;生长温度为600‑1000℃,生长气压为103‑104Pa;然后,在金刚石表面采用电镀、化学镀、蒸镀、磁控溅射、化学气相沉积、物理气相沉积中的一种方法在沉积表面沉积镍、铜、钴的一种或复合催化层;再沉积碳纳米管,沉积参数为:含碳气体占炉内全部气体质量流量百分比为5‑50%;生长温度为400‑1300℃,生长气压为103‑105Pa;等离子电流密度为0‑30mA/cm2;沉积区域中磁场强度为100高斯至30特斯拉;沉积石墨烯/碳纳米管包覆金刚石:首先,采用化学气相沉积技术在衬底表面沉积金刚石,沉积参数为:含碳气体质量流量百分比为0.5‑10%;生长温度为600‑1000℃,生长气压103‑104Pa;然后,在金刚石表面沉积石墨烯膜,沉积参数为:含碳气体质量流量百分比为0.5‑80%;生长温度为400‑1200℃,生长气压为5‑105Pa;等离子电流密度为0‑50mA/cm2;沉积区域中磁场强度为100高斯至30特斯拉;最后,在石墨烯表面采用电镀、化学镀、蒸镀、磁控溅射、化学气相沉积、物理气相沉积中的一种方法在衬底表面沉积镍、铜、钴的一种或复合催化层后,沉积碳纳米管林,沉积参数为:含碳气体质量流量百分比为5‑80%;生长温度为400‑1200℃,生长气压为5‑105Pa;等离子电流密度为0‑50mA/cm2;第二步:采用压力熔渗技术将具有金刚石强化层的增强体与铜基体复合。
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