[发明专利]一种发光二极管芯片及其制作方法有效
申请号: | 201610172229.2 | 申请日: | 2016-03-24 |
公开(公告)号: | CN105742455B | 公开(公告)日: | 2018-05-22 |
发明(设计)人: | 尹灵峰;王江波 | 申请(专利权)人: | 华灿光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/46 | 分类号: | H01L33/46;H01L33/00 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 430223 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种发光二极管芯片及其制作方法,属于半导体技术领域。所述发光二极管芯片包括衬底、N型层、发光层、P型层、透明导电薄膜、P型电极、N型电极、以及DBR,N型层、发光层、P型层依次层叠在衬底的第一表面,P型层上设有从P型层延伸到N型层的凹槽,透明导电薄膜和P型电极依次设置在P型层上,N型电极设置在N型层上,DBR设置在衬底的第二表面,第二表面为与第一表面相反的表面,发光二极管芯片还包括依次层叠在DBR上的Ag金属反射层和金属保护层,金属保护层和DBR形成密封空间,Ag金属反射层位于密封空间内。本发明可实现全方位反射,提高发光二极管的发光亮度和发光效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 芯片 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种发光二极管芯片的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:在衬底的第一表面依次形成N型层、发光层、P型层,形成外延层;在所述P型层上形成从所述P型层延伸到所述N型层的凹槽;在所述P型层上形成透明导电薄膜;在所述透明导电薄膜上设置P型电极,在所述N型层上设置N型电极;对所述衬底进行减薄;在所述衬底的第二表面形成分布式布拉格反射镜DBR,所述第二表面为与所述第一表面相反的表面;对所述DBR、所述衬底、以及所述外延层进行切割和分裂,得到相互独立的LED芯片;在所述DBR上形成Ag金属反射层,并将所述Ag金属反射层沿所述LED芯片之间的分割线撕裂,通过胶膜去除所述LED芯片之间的分割线上的Ag金属反射层;在所述Ag金属反射层上沉积金属保护层,并通过扩膜动作将所述金属保护层沿所述LED芯片之间的分割线断开,所述金属保护层和所述DBR形成密封空间,所述Ag金属反射层位于所述密封空间内。
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