[发明专利]衍射光栅的制造方法、衍射效率计算方法及衍射光栅

摘要

本发明是关于一种衍射光栅的制造方法、衍射效率计算方法及衍射光栅，无需另外准备镜子，而能够容易且正确地计算出衍射效率。在主基板的表面涂布抗蚀剂(图1(a))。对抗蚀剂的表面的一部分施加掩模(图1(b))。通过从两个方向对涂布有抗蚀剂的主基板的表面进行曝光而产生干涉条纹，在主基板的表面形成对应于此干涉条纹的抗蚀剂图案(图1(c))。通过对抗蚀剂图案进行蚀刻，在主基板的表面形成对应于抗蚀剂图案的衍射光栅槽(图1(d))。获得主衍射光栅，此主衍射光栅在未施加掩模的区域中形成有衍射光栅槽，在施加了掩模的区域中未形成衍射光栅槽。

主权项

一种衍射光栅的制造方法，其特征在于包括:抗蚀剂涂布工序，在基板的表面涂布抗蚀剂；曝光工序，通过从两个方向对涂布有所述抗蚀剂的所述基板的表面进行曝光而产生干涉条纹，在所述基板的表面形成对应于所述干涉条纹的抗蚀剂图案；蚀刻工序，通过对所述抗蚀剂图案进行蚀刻，在所述基板的表面形成对应于所述抗蚀剂图案的衍射光栅槽；以及掩模工序，在所述抗蚀剂涂布工序与所述曝光工序之间、或所述曝光工序与所述蚀刻工序之间，对所述抗蚀剂的表面的一部分施加掩模，其中，通过所述蚀刻工序获得衍射光栅，所述衍射光栅在未施加所述掩模的区域中形成有所述衍射光栅槽，在施加了所述掩模的区域中未形成所述衍射光栅槽。