[发明专利]一种柔性抛光垫

摘要

本发明涉及研磨抛光技术领域，尤指一种针对超硬材料进行研磨加工的柔性抛光垫；主要由耐高温柔性纤维垫、超硬复合陶瓷薄片和柔性树脂组成，在耐高温柔性纤维垫上方原位烧结一层刚性超硬复合陶瓷，再用柔性树脂渗透于纤维垫和超硬复合陶瓷薄片的缝隙和孔洞中，待树脂固化后，复合陶瓷被固定在柔性纤维垫上；最后，将覆盖在复合陶瓷表面的高分子材料去除，使陶瓷表面露出，获得柔性抛光垫，原位烧结的超硬复合陶瓷薄片具有较高的研磨去除效率，另外，由于薄片位于柔性纤维垫和柔性树脂上，当遭遇较强的研磨撞击时，纤维垫和树脂起缓冲作用，避免陶瓷薄片与加工工件的表面发生硬接触，降低划伤几率。

主权项

1.一种柔性抛光垫，其特征在于：所述的抛光垫由耐高温柔性纤维垫、超硬复合陶瓷薄片和柔性树脂组成，其中超硬复合陶瓷薄片附着在耐高温柔性纤维垫上，柔性树脂渗透在纤维垫和超硬复合陶瓷薄片的缝隙和孔洞中，所述的抛光垫的制备方法如下：（一）制备超硬复合陶瓷：所述的超硬复合陶瓷包括浆料和粘接剂，浆料由磨料和陶瓷粘结剂组成；所述的磨料以超硬材料为主要原料，成分配比及粒度如下：超硬材料3～60 wt%，粉体粒度0.5～26 um；所述的陶瓷粘结剂以高岭土、石英砂、硼砂、氢氧化锂、氧化锌、氧化铁、氧化铜、萤石的混合粉体为主要原料，各成分配比及粒度如下，高岭土1～3 wt%，粉体粒度0.1～2 um；石英砂 10～40 wt%，粉体粒度1～10 um；硼砂15～20 wt%，粉体粒度1～10 um；氢氧化锂5～15 wt%，粉体粒度1～20 um；萤石10～35 wt%，粉体粒度1～10 um；氧化铜 3～5 wt%，粉体粒度1～10 um；氧化锌 3～5 wt%，粉体粒度1～10 um；氧化铁 3～5 wt%，粉体粒度1～10 um；按上述配方将各组分充分混合搅拌均匀，再按陶瓷粘结剂与磨料的混合物40～60份，去离子水40～60份，粘接剂1～5份的比例混合搅拌1‑2小时，制备成超硬复合陶瓷浆料；（二）制备柔性纤维垫‑超硬复合陶瓷薄片复合体：将步骤（一）中所述的超硬复合陶瓷浆料均匀涂覆到耐高温柔性纤维垫的表面，然后干燥；将干燥后的坯体放入真空烧结炉中，抽真空至5～20 Pa，在200～300 ℃条件下加热20～40分钟，再升温至600～900 ℃，保温2～3小时，再自然冷却至室温，使超硬复合陶瓷薄片在纤维垫表面原位烧结；（三）成型抛光垫：原位烧结后，再用柔性树脂浸润耐高温柔性纤维垫‑超硬复合陶瓷薄片复合体，使树脂填充到陶瓷薄片的裂纹和孔洞以及纤维编织体中，再使树脂固化，最后将超硬复合陶瓷薄片表面的树脂去除，使超硬复合陶瓷薄片的表面露出，即可获得柔性抛光垫。