[发明专利]一种光强调制方法有效
| 申请号： | 201610200470.1 | 申请日： | 2016-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN107290935B | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 马鹏川;田毅强 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光强调制方法，包括：步骤1：根据照明系统的弥散斑函数、照明视场的既有光强分布及目标光强分布，计算得到所需的掩模版透过率分布；步骤2：根据目标光强分布的精度需求，对掩模版进行网格划分，根据所述掩模版透过率分布和透过率分布精度需求，继而确定每个网格内不透光点的分布；步骤3：根据所述不透光点的分布，制作加工掩模版；然后，将所述掩模版设置在照明系统中。本发明具有调制精度高、调制视场面积大、调制光强范围大、适用波长范围大及制造工艺成熟等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调制 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光强调制方法，其特征在于，包括：步骤1：根据照明系统的弥散斑函数、照明视场的既有光强分布及目标光强分布，计算得到所需的掩模版透过率分布；步骤2：根据目标光强分布的精度需求，对掩模版进行网格划分，根据所述掩模版透过率分布和透过率分布精度需求，继而确定每个网格内不透光点的分布；步骤3：根据所述不透光点的分布，制作加工掩模版；然后，将所述掩模版设置在照明系统中。
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