[发明专利]一种防止足下垂调节治疗装置

摘要

本发明公开了一种防止足下垂调节治疗装置，包括足部支撑单元、调位支撑单元和安装固定单元，安装固定单元可拆卸的安装在病床边缘，调位支撑单元固定安装在安装固定单元上，调位支撑单元悬设在病床上方，足部支撑单元活动式安装在调位支撑单元上；病人的足部搭放在足部支撑单元上保证病人的足底与病人的腿部呈垂直状态，足部支撑单元可在调位支撑单元上进行位置改变以调节病人两腿之间的岔开距离。本发明通过足部支撑单元、调位支撑单元和安装固定单元的设置，不仅保证了足底与腿部之间垂直位置的要求，同时本发明的装置还能调节两个脚之间的距离，通过两腿之间的活动，能充分的暴露病人大腿根部的创伤面，利于后期恢复。

主权项

一种防止足下垂调节治疗装置，其特征在于，包括足部支撑单元(1)、调位支撑单元(2)和安装固定单元(3)，安装固定单元(3)可拆卸的安装在病床边缘，调位支撑单元(2)固定安装在安装固定单元(3)上，调位支撑单元(2)悬设在病床上方，足部支撑单元(1)活动式安装在调位支撑单元(2)上；病人的足部搭放在足部支撑单元(1)上保证病人的足底与病人的腿部呈垂直状态，足部支撑单元(1)能够在调位支撑单元(2)上进行位置改变以调节病人两腿之间的岔开距离；所述的足部支撑单元(1)包括足底支撑件(11)和足后跟支撑件(12)，足底支撑件(11)和足后跟支撑件(12)相互垂直交叉连接，使用时，足后跟搭放在足后跟支撑件(12)上，足底在足底支撑件(11)的限制下与病人腿部呈垂直状态；在足底支撑件(11)上设置多个角度调节气囊，通过对角度调节气囊的充气量的控制调节足底与腿部之间呈45～90°的夹角；所述的调位支撑单元(2)包括依次相连的第一安装位置调节架(21)、足部支撑单元调节架(22)和第二安装位置调节架(23)，第一安装位置调节架(21)和第二安装位置调节架(23)的底端分别设置一个安装固定单元(3)，第一安装位置调节架(21)和第二安装位置调节架(23)调节调位支撑单元(2)在竖向和横向之间的高度和距离，足部支撑单元(1)活动式安装在足部支撑单元调节架(22)上；所述的足部支撑单元调节架(22)为弧状轨道式构件，沿足部支撑单元调节架(22)设置足部支撑单元滑轨(222)，在足后跟支撑件(12)的底部设置支撑杆(125)，支撑杆(125)的底部设置滑块(126)，支撑杆(125)与足后跟支撑件(12)的连接处设置万向轴(124)，通过支撑杆(125)底部的滑块(26)沿足部支撑单元滑轨(222)的滑动实现足部支撑单元(1)在调位支撑单元(2)上的位置改变；所述的足底支撑件(11)为板状构件，沿足底支撑件(11)的高度方向设置多个透气孔(111)，所述的角度调节气囊设置在相邻的透气孔(111)之间的足底支撑件(11)上，且在足底支撑件(11)的边缘设置脚背固定绑带(114)；所述的足后跟支撑件(12)为嵌套抽拉板式构件，通过抽拉板延长足后跟支撑件(12)的长度能够同时对病人小腿部位进行支撑。