[发明专利]阵列基板、薄膜晶体管、显示器件的制作方法、显示装置有效
申请号: | 201610206911.9 | 申请日: | 2016-04-05 |
公开(公告)号: | CN105633102B | 公开(公告)日: | 2018-11-09 |
发明(设计)人: | 宁云龙;杨志 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/786;H01L29/423;G02F1/1333;G02F1/1362 |
代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王伟锋;刘铁生 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种阵列基板、薄膜晶体管、显示器件的制作方法、显示装置,其中的阵列基板包括基板和依次形成在基板上的栅极金属层、绝缘层和源漏极金属层;其中,栅极金属层由至少两个依次层叠的图案化金属膜层构成;至少两个依次层叠的图案化金属膜层在同一种金属刻蚀液下的刻蚀速率沿着背离基板的方向逐层增大;至少两个依次层叠的图案化金属膜层的膜层面积沿着背离基板的方向逐层减小。基于此,本发明可以改善源漏极金属层中由栅极金属层边缘处的坡度角所导致的内部缺陷,有利于提升良率、降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 阵列 薄膜晶体管 显示 器件 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:基板和依次形成在所述基板上的栅极金属层、绝缘层和源漏极金属层;其中,所述栅极金属层由至少两个依次层叠的图案化金属膜层构成;所述至少两个依次层叠的图案化金属膜层在同一种金属刻蚀液下的刻蚀速率沿着背离所述基板的方向逐层增大,所述至少两个依次层叠的图案化金属膜层均采用同一种金属材料形成;所述至少两个依次层叠的图案化金属膜层的致密程度沿着背离所述基板的方向逐层减小;所述至少两个依次层叠的图案化金属膜层的膜层面积沿着背离所述基板的方向逐层减小。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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