[发明专利]一种高效彩色多晶太阳能电池及其制备方法

摘要

本发明公开一种高效彩色多晶太阳能电池及其制备方法，属于太阳能电池技术领域，包括以下步骤，1)对多晶硅片进行硝酸银催化制绒；2)在硅片正面进行高方阻磷扩散；3)去除所述磷扩散形成的正面磷硅玻璃和周边PN结；4)对硅片管式氧化形成二氧化硅；5)在硅片正面进行PECVD镀膜；6)在硅片背面印刷背电极和铝背场；7)在硅片正面印刷正电极浆料形成正电极；8)对硅片进行烧结形成彩色多晶太阳能电池。本发明利用硝酸银催化制绒，形成高低差为1‑5μm的绒面，大于普通酸法制绒的绒面尺寸，大幅度降低了光的反射率，避免了后续减薄氮化硅膜对反射率的负面效果；采用二氧化硅钝化，提高了电池的开路电压和短路电流。

主权项

一种高效彩色多晶太阳能电池的制备方法，其特征在于，包括以下步骤，1)对多晶硅片进行硝酸银催化制绒，硝酸银催化制绒的具体步骤包括，将硅片置于浓度为1.0‑2.5mol/L的AgNO3溶液中，通过AgNO3溶液在硅片上电化学沉积Ag纳米颗粒，再采用质量比为2.0:1‑4.5:1的H2O2和HF的混合溶液刻蚀该带有Ag纳米粒的硅片，待硅片上形成高低差为1‑5μm的绒面，再采用质量比为1:1‑2:1的HCL和H2O2的混合溶液去除硅片上的Ag颗粒；2)在硅片正面进行高方阻磷扩散；3)去除所述磷扩散形成的正面磷硅玻璃和周边PN结；4)采用管式扩散炉对硅片进行氧化，管式扩散炉的工作条件为，扩散温度为800‑850℃，氧化时间为10‑30min，在硅片表面生长厚度为25‑60nm的二氧化硅；5)采用PECVD镀膜在硅片正面形成厚度为20‑55nm的单层彩色氮化硅膜，所述氮化硅膜的折射率为1.85‑2.0，在PECVD镀膜时，采用流量比为3.5:1‑7.5:1的氨气和硅烷的混合工艺气体,沉积时间为5‑15min；6)在硅片背面印刷背电极和铝背场；7)在硅片正面印刷正电极浆料形成正电极；8)对硅片进行烧结形成彩色多晶太阳能电池。