[发明专利]一种修复设备及修复方法有效
| 申请号： | 201610213553.4 | 申请日： | 2016-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN105676493B | 公开（公告）日： | 2019-06-28 |
| 发明（设计）人： | 胡瑾;吴斌;孟祥明;节昌凯;冷荣军;余忠兴;沈文俊 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种修复设备及修复方法，用于对目标基板上未能正常设置隔垫物的缺陷区域进行修复。其中，所述修复设备包括：存储装置，用于存储液态的修复剂；转换装置，用于向所述存储装置获取液态的修复剂，并将该获取到的液态的修复剂转换为半固态的修复剂；涂覆装置，用于将所述半固态的修复剂，按照隔垫物的形状涂覆在所述缺陷区域上。本发明首次提供一种能够对隔垫物进行修复的方案。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 修复 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种修复设备，用于对目标基板上未能正常设置隔垫物的缺陷区域进行修复，其特征在于，所述修复设备包括：存储装置，用于存储液态的修复剂；转换装置，用于向所述存储装置获取液态的修复剂，并将该获取到的液态的修复剂转换为半固态的修复剂；涂覆装置，用于将所述半固态的修复剂，按照隔垫物的形状涂覆在所述缺陷区域上；所述涂覆装置包括：处理模块，用于确定半固态的修复剂的涂覆参数；涂覆模块，用于按照所述涂覆参数，涂覆半固态的修复剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610213553.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：背光单元和包括该背光单元的液晶显示装置
- 下一篇：一种全自动眼镜清洁机
