[发明专利]图案化薄膜真空蒸镀装置及方法有效
| 申请号： | 201610215457.3 | 申请日： | 2016-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN107267926B | 公开（公告）日： | 2020-03-17 |
| 发明（设计）人： | 魏洋;范守善 | 申请（专利权）人： | 清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28;C23C14/04;C23C14/50 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区清*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种图案化薄膜的真空蒸镀装置，包括真空室、待镀基底、蒸发源条带、激光源及栅网，该蒸发源条带包括蒸发材料及碳纳米管膜结构，该碳纳米管膜结构为一载体，该蒸发材料设置在该碳纳米管膜结构表面。该栅网包括相对的第一表面及第二表面，该第一表面与该激光源相对且间隔设置，该蒸发源条带能够沿长度方向通过该激光源与该栅网之间，该栅网的第二表面与该待镀基底相对设置，该蒸发源条带通过该激光源与该栅网之间的部分与该待镀基底平行且间隔设置，该蒸发源条带、待镀基底、激光源及栅网均设置在该真空室中。本发明还提供一种图案化薄膜的真空蒸镀方法。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 薄膜 真空 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种图案化薄膜的真空蒸镀装置，包括真空室及待镀基底，其特征在于，进一步包括：蒸发源条带，包括蒸发材料及碳纳米管膜结构，该碳纳米管膜结构为一载体，该蒸发材料设置在该碳纳米管膜结构表面，通过该碳纳米管膜结构承载；激光源；以及栅网，包括相对的第一表面及第二表面，该第一表面与该激光源相对且间隔设置，该蒸发源条带能够沿长度方向通过该激光源与该栅网之间，该栅网的第二表面与该待镀基底相对设置，该蒸发源条带通过该激光源与该栅网之间的部分与该待镀基底平行且间隔设置，该蒸发源条带、待镀基底、激光源及栅网均设置在该真空室中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司，未经清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610215457.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：真空蒸镀用蒸发源，真空蒸镀装置及方法
- 下一篇：一种碳镍纳米棒薄膜的制备方法
- 同类专利
- 专利分类
