[发明专利]一种液相基底沉积金属薄膜分离装置有效
| 申请号： | 201610217374.8 | 申请日： | 2016-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN105671510B | 公开（公告）日： | 2018-01-23 |
| 发明（设计）人： | 乔宪武 | 申请（专利权）人： | 中国计量大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/58 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明属于磁控溅射技术，具体涉及一种液相基底沉积金属薄膜分离装置，其特征在于顶盖方便打开和密封开口，底座密封圆桶底部，带孔隔板固定在圆桶中间位置，带孔隔板中间涂二甲基硅油薄层，金属薄膜沉积在涂二甲基硅油薄层上方。本发明有益效果通过本装置，磁控溅射后形成的金属膜可以在真空环境下获得，不会氧化；恒温的环境减少硅油内应力对金属薄膜的作用，不会出现金属薄膜褶皱。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基底 沉积 金属 薄膜 分离 装置 | ||
【主权项】：
一种液相基底沉积金属薄膜分离装置，其特征在于：顶盖(1)方便打开和密封开口，底座(7)密封圆桶(5)底部，带孔隔板(4)固定在圆桶(5)中间位置，带孔隔板(4)中间涂二甲基硅油(3)薄层，金属薄膜(2)沉积在涂二甲基硅油(3)薄层上方，有机溶剂(6)存放于底座(7)和圆桶(5)形成的存储空间，有机溶剂(6)液面低于带孔隔板(4)位置； 二甲基硅油(3)薄层沉积和剥离过程在真空室中，操作通过机械手完成，本装置可以倒转，顶盖(1)可以作为底座(7)使用。
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