[发明专利]耐高温的发光二极管蒸镀膜图案形成的方法及其装置在审
| 申请号： | 201610234554.7 | 申请日： | 2016-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN107302041A | 公开（公告）日： | 2017-10-27 |
| 发明（设计）人： | 龚正;刘建政;杨政达 | 申请（专利权）人： | 元茂光电科技（武汉）有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/36 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 任岩 |
| 地址： | 430074 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种耐高温的发光二极管蒸镀膜图案形成的方法，包括下列步骤设置耐高温磁性吸附组件于载具的第一容置空间内、设置芯片于载具的第二容置空间内以及以非磁性金属掩膜覆盖载具的第二容置空间，其中高温的温度大于80℃以上。本发明还提供一种耐高温的发光二极管蒸镀膜图案形成的装置，包括一载具、一耐高温磁性吸附组件、一芯片以及一非磁性金属掩膜。载具具有第一容置空间及第二容置空间。耐高温磁性吸附组件设置于第一容置空间内。芯片设置于载具的第二容置空间内。非磁性金属掩膜覆盖载具的第二容置空间，其中高温的温度为80℃以上。 | ||
| 搜索关键词： | 耐高温 发光二极管 镀膜 图案 形成 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
一种耐高温的发光二极管蒸镀膜图案形成的方法，其特征在于，包括下列步骤：设置一耐高温磁性吸附组件于一载具的一第一容置空间内；设置一芯片于该载具的一第二容置空间内；以及以一非磁性金属掩膜覆盖该载具的该第二容置空间；其中，该高温的温度为80℃以上。
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