[发明专利]基于稀疏优化的缺陷幻方求解方法在审

专利信息
申请号: 201610235646.7 申请日: 2016-04-15
公开(公告)号: CN105786771A 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 徐晓华;梁雅丽;何萍;廖铮 申请(专利权)人: 扬州大学
主分类号: G06F17/16 分类号: G06F17/16
代理公司: 扬州苏中专利事务所(普通合伙) 32222 代理人: 许必元
地址: 225009 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于应用于益智类问题中对缺陷幻方的求解分析,特别涉及一种基于稀疏优化的缺陷幻方求解方法。本发明针对幻方的性质,利用稀疏优化的思想,将缺陷幻方的求解问题转化为一个1范数的优化问题,求解迅速,克服了已有技术的缺陷。本发明将缺陷幻方的约束条件稀疏化,并将原始问题转化为易于求解的线性规划问题,提高了求解的成功率,降低时间消耗,具有良好的扩展性。本发明的模型简单,易于实现。因此本发明对市场的实施是可行的。本发明的思想扩展性强,除了求解缺陷幻方问题,可以应用于幻方、幻立方、特殊幻方、拉丁方、数独等多种益智类游戏中,还可以应用于工程问题中,对这些难以求解的模型。
搜索关键词: 基于 稀疏 优化 缺陷 求解 方法
【主权项】:
基于稀疏优化的缺陷幻方求解方法,对于n阶幻方,其特征在于,包括如下步骤:(1)针对幻方的性质提出约束规划,将缺陷幻方的求解问题转化约束规划问题;(2)对于缺陷幻方的解x,将其放宽到实数域,每一点xij用n2个0~1之间的实数xijk(k=1,2,…,n2)表示,将约束问题转化为线性方程组,其中约束条件包括:(2‑1)格约束条件,即每个幻方由1~n2这n2个数字填充,不能重复;(2‑2)填充约束条件,即每个格子必须填充1~n2之间的一个数;(2‑3)提示约束条件,即表示缺陷幻方中已存在的提示;(2‑4)行和约束条件,即幻方中每一行的元素和应为n(n2+1)/2;(2‑5)列和约束条件,即幻方中每一列的元素和应为n(n2+1)/2;(2‑6)主对角线和约束条件,即幻方中主对角线的元素和应为n(n2+1)/2;(2‑7)次对角线和约束条件,即幻方中次对角线的元素和应为n(n2+1)/2;(3)将约束条件稀疏化,得到目标函数和约束条件;(4)用l1范数近似,将求解缺陷幻方问题转化为线性规划问题;(5)采用内点法、对偶单纯形法和分支定界法求解规划问题;(6)解决新的幻方问题,幻方中嵌套小幻方;(7)将此方法应用于幻立方中,得到线性规划模型。
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