[发明专利]基于单次曝光模式的光栅衍射效率光谱的测量装置和方法有效
申请号: | 201610242396.X | 申请日: | 2016-04-19 |
公开(公告)号: | CN105928688B | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
发明(设计)人: | 刘世杰;王圣浩;张志刚;李灵巧;王微微;周游;潘本威;白云波 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02;G01J3/28 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯;张宁展 |
地址: | 201800 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种原位时间分辨光栅衍射效率光谱的测量装置,包括光源模块、参考光模块和测试光模块,光源模块为测试系统提供光源,参考光模块由凹面准直镜、标准参考光栅、凹面聚焦镜和线阵CCD探测器组成,用于测量参考光束的光谱参数;测试光模块由凹面准直镜、待测光栅、凹面聚焦镜和线阵CCD探测器组成,用于测量测试光束的光谱参数。本发明提高了光栅衍射效率光谱的测试速度,可以实现超快速的光栅衍射效率光谱的测量,可以应用于原位时间分辨光栅衍射效率光谱的测量环境中;在测量过程中,仪器的所有机械结构保持静止,测试系统因而具有较高的机械稳定性。 1 | ||
搜索关键词: | 光栅衍射效率 光谱 测量 线阵CCD探测器 原位时间分辨 凹面聚焦镜 凹面准直镜 光栅 测量装置 测试系统 光谱参数 光源模块 参考光 测试光 机械稳定性 标准参考 参考光束 测量过程 测试光束 单次曝光 机械结构 光源 静止 测试 应用 | ||
【主权项】:
1.一种基于单次曝光模式的光栅衍射效率光谱的测量装置,其特征在于,包括由光源模块壳体(13)、参考光模块壳体(23)和测试光模块壳体(26)围成的三个封闭腔体,且光源模块壳体(13)与参考光模块壳体(23)通过第一狭缝相通,光源模块壳体(13)与测试光模块壳体(26)通过第二狭缝相通;以及设置在所述光源模块壳体(13)内的标定光源(14)、测量光源(15)、切光器(16)、滤光片(17)、偏振片(18)、光阑(19)和分束器(20),设置在所述参考光模块壳体(23)内的参考线阵CCD探测器(21)、标准参考光栅(22)、参考凹面聚焦镜(24)和参考凹面准直镜(25),设置在所述测试光模块壳体(26)内的测试线阵CCD探测器(27)、测试凹面聚焦镜(28)、待测光栅(29)和测试凹面准直镜(30);所述标定光源(14)和测量光源(15)发出的复色光波经切光器(16)选择后,照射在滤光片(17)上,接着出射光经偏振片(18)成为线偏振光后经光阑(19)后入射到分束器(20),经分束器(20)分为参考光束和测试光束;所述参考光束通过第一狭缝入射到参考凹面准直镜(25)上,变为平行光后照射在标准参考光栅(22)上,经标准参考光栅(22)的衍射,光束中不同波长的成份会以不同的角度照射在参考凹面聚焦镜(24)上,然后经过参考凹面聚焦镜(24)聚焦后,不同波长的成份会照射在参考线阵CCD探测器(21)的不同像素位置处;所述测试光束通过第二狭缝入射在测试凹面准直镜(30)上,变为平行光后照射在待测光栅(29)上,经过待测平面反射光栅(29)的衍射,光束中不同波长的成份会以不同的角度照射在测试凹面聚焦镜(28)上,然后经过测试凹面聚焦镜(28)的聚焦后,不同波长的成份会照射在测试线阵CCD探测器(27)的不同像素位置处。
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