[发明专利]制造衬底保持器的方法有效

专利信息
申请号: 201610252175.0 申请日: 2012-02-16
公开(公告)号: CN105824199B 公开(公告)日: 2019-03-29
发明(设计)人: R·W·L·拉法瑞;N·坦凯特;N·V·德兹欧姆提那;Y·P·科瑞德;S·A·特兰普;J·J·雷森;E·C·罗登伯格;M·W·L·H·菲特斯;H·于斯曼 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01J5/20;G01J5/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明公开了制造衬底保持器的方法。用于光刻设备的衬底保持器具有设置在其表面上的平坦化层。该平坦化层提供平滑表面,用于形成薄膜叠层以形成电子部件。该薄膜叠层包括可选的隔离层、用于形成电极、传感器、加热器、晶体管或逻辑器件的金属层以及顶部隔离层。所述方法包括步骤:在所述衬底保持器的主体的表面的至少一部分上设置平坦化层;在所述平坦化层的顶部形成或附着薄膜叠层,其中所述薄膜叠层形成电子或电气部件,其中多个突节从所述表面突出且具有支撑衬底的端面,并且其中所述薄膜叠层与所述多个突节中的相邻突节沿水平地被间隙隔开。
搜索关键词: 制造 衬底 保持 方法
【主权项】:
1.一种制造用于光刻设备中的衬底保持器的方法,所述方法包括步骤:设置主体,所述主体具有表面和多个突节,所述多个突节从所述表面突出并且具有支撑衬底的端面;在所述衬底保持器的主体的表面的至少一部分上设置平坦化层;以及在所述平坦化层的顶部形成或设置有薄膜叠层,其中所述薄膜叠层形成电子或电气部件,其中在所述平坦化层的至少部分区域所述薄膜叠层与所述多个突节中的突节之间存在间隙。
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