[发明专利]一种高比容电容负极箔及其制备的镀膜装置在审
| 申请号： | 201610256319.X | 申请日： | 2016-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN105761939A | 公开（公告）日： | 2016-07-13 |
| 发明（设计）人： | 关秉羽 | 申请（专利权）人： | 辽宁鑫金铂科技有限公司 |
| 主分类号： | H01G9/042 | 分类号： | H01G9/042;H01G9/045;H01G9/048;H01G13/00;C23C14/56;C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 铁岭天工专利商标事务所 21105 | 代理人： | 王化斌 |
| 地址： | 112600 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种高比容电容负极箔，具有铝箔，所述铝箔的表面溅射有氮化钛层，氮化钛层的表面溅射有氮化钛和石墨的混合层。本发明的高比容电容负极箔，实验测试表明：氮化钛层与铝箔表面结合牢固，氮化钛和石墨的混合层与氮化钛层结合牢固，在作为负极箔时，同比电容量达到铝箔的数倍、高于碳箔，具有比铝箔更低的阻抗和损耗，尤其适合制作固态电容器和大容量电解电容器，具有体积小、寿命长、热稳定性好的特点。本发明同时还公开了制备该高比容电容负极箔的镀膜装置，主要包括真空放卷室、第一真空镀膜室、第二真空镀膜室和真空收卷室，本镀膜装置从放卷到收卷可以实现连续镀膜，镀膜速度快、生产效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 比容 电容 负极 及其 制备 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种高比容电容负极箔，具有铝箔（1），其特征在于：所述铝箔（1）的表面溅射有氮化钛层（2），氮化钛层（2）的表面溅射有氮化钛和石墨的混合层（3）。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于辽宁鑫金铂科技有限公司，未经辽宁鑫金铂科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610256319.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
