[发明专利]半导体集成加工设备和半导体加工方法有效

专利信息
申请号: 201610258582.2 申请日: 2016-04-22
公开(公告)号: CN107316824B 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 方浩;刘凯 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/673;H01L21/677
代理公司: 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) 11442 代理人: 王昭智;马佑平
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种半导体集成加工设备和半导体加工方法。该半导体集成加工设备包括:至少两个工艺室(1);连通所述工艺室(1)的高温通道(2),所述高温通道(2)具有保温装置;传输装置,所述传输装置包括传输部(31)和驱动部(32),所述驱动部(32)设置在所述工艺室(1)和高温通道(2)之外,所述传输部(31)设置在所述驱动部(32)的端部,所述驱动部(32)驱动所述传输部(31)伸入所述工艺室(1)和高温通道(2)并在其中移动。本发明解决的一个技术问题是基片在各个加工工艺之间过度降温。
搜索关键词: 半导体 集成 加工 设备 方法
【主权项】:
一种半导体集成加工设备,其特征在于,包括:至少两个工艺室(1);连通所述工艺室(1)的高温通道(2),所述高温通道(2)具有保温装置;传输装置,所述传输装置包括传输部(31)和驱动部(32),所述驱动部(32)设置在所述工艺室(1)和高温通道(2)之外,所述传输部(31)设置在所述驱动部(32)的端部,所述驱动部(32)驱动所述传输部(31)伸入所述工艺室(1)和高温通道(2)并在其中移动。
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