[发明专利]一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构有效
| 申请号： | 201610273523.2 | 申请日： | 2016-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN105824061B | 公开（公告）日： | 2018-01-02 |
| 发明（设计）人： | 张建付;杨崇民;米高园;张万虎;刘青龙;黎明;王松林;刘方;杨建军;金珂;赵兴梅;杨华梅;王润荣;董莹 | 申请（专利权）人： | 西安应用光学研究所 |
| 主分类号： | G02B1/14 | 分类号： | G02B1/14;G02B1/115 |
| 代理公司： | 西北工业大学专利中心61204 | 代理人： | 陈星 |
| 地址： | 710065 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提出一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构，包括氟化镁基片和减反射高强度保护膜系，减反射高强度保护膜系由四个膜层叠加构成，第一膜层为氟化镁膜层，镀制在氟化镁基片的表面上，膜层厚度18～24nm；第二膜层为硫化锌膜层，膜层厚度495～503nm，并镀制在第一膜层上；第三膜层为锗膜层，膜层厚度112～120nm，并镀制在第二膜层上；第四膜层为类金刚石膜层，膜层厚度498～502nm，并镀制在第三膜层上。本发明采用多层粘接层技术，解决了DLC高强度保护膜与氟化镁基底之间的应力匹配问题，整个薄膜系统和氟化镁基底结合牢固，同时多层粘接层与DLC膜构成多层减反射膜系，有效降低了由于基底和DLC保护膜的折射率不匹配而引起的表面反射损失。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氟化 中波 红外 光学 窗口 强度 保护膜 结构 | ||
【主权项】：
一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构，包括减反射高强度保护膜系；其特征在于：还包括氟化镁基片；所述减反射高强度保护膜系由四种薄膜材料制备的四个膜层叠加构成，其中，第一膜层为氟化镁膜层，镀制在所述氟化镁基片的表面上，膜层厚度18～24nm；第二膜层为硫化锌膜层，膜层厚度495～503nm，并镀制在所述第一膜层上；第三膜层为锗膜层，膜层厚度112～120nm，并镀制在所述第二膜层上；第四膜层为类金刚石膜层，膜层厚度498～502nm，并镀制在所述第三膜层上。
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