[发明专利]物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法

摘要

于基板(P)下方配置有对基板(P)下面喷出空气的多个空气悬浮单元(50)，并且基板(P)被以非接触方式支承成大致水平。进一步地，基板(P)被定点载台(40)从下方以非接触方式保持被曝光部位，该被曝光部位的面位置被精确调整。是以，能以高精度对基板(P)进行曝光，且能使基板载台装置(PST)的构成简单化。

主权项

1.一种物体处理装置，其是对一平板状物体进行既定处理，该平板状物体沿包含彼此正交的第1及第2轴的一既定二维平面配置，该物体处理装置具备：一移动体，其可在保持前述物体的一端部的状态下可沿前述二维平面移动；一驱动装置，其是使前述移动体至少移动于前述二维平面内的既定方向；一执行装置，其是对前述物体的一面侧的一部分区域执行既定动作；一调整装置，其具有从前述物体的与前述一面侧不同的另一面侧以非接触状态保持前述物体中包含前述部分区域的部分的保持面、以及以调整前述部分在与前述二维平面交叉的方向的位置的方式驱动前述保持面的致动器；以及一非接触支承装置，其是使其支承面对向于前述物体的被前述调整装置保持的部分以外的其他区域，以从下方以非接触方式支承前述物体；前述保持面，设置成分别与前述驱动装置及前述致动器在振动上分离；前述驱动装置，将前述移动体从排列配置于前述既定方向的前述调整装置及前述非接触支承装置中的一方往另一方驱动。