[发明专利]自发光型显示装置及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201610286915.2 申请日: 2016-05-03
公开(公告)号: CN105932166B 公开(公告)日: 2018-03-30
发明(设计)人: 李先杰 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所44265 代理人: 林才桂
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种自发光型显示装置及其制作方法,该显示装置包括了蓝光OLED、红光QLED、和绿光QLED,且蓝光OLED、红光QLED、和绿光QLED包括共同的蓝光发光层,即蓝光发光层位于所有的子像素区域上,而红光QLED和绿光QLED的发光层分别对应的位于红色和绿色子像素区域上,因此,蓝光发光层可通过采用蒸镀成膜工艺制作,从而克服采用湿法成膜工艺制作蓝光OLED引起的发光效率低和寿命短的问题,而红光和绿光发光层可通过湿法成膜工艺制作,从而克服采用蒸镀成膜工艺制作红光QLED和绿光QLED引起的材料利用率低和生产成本高的问题,能够在不影响自发光型显示装置发光效率和寿命的前提下,降低生产成本,提升产品竞争力。
搜索关键词: 发光 显示装置 及其 制作方法
【主权项】:
一种自发光型显示装置,其特征在于,包括:基板(10)、位于所述基板(10)上的蓝光OLED(30)、绿光QLED(40)、和红光QLED(50)、位于所述蓝光OLED(30)、绿光QLED(40)、和红光QLED(50)上的封装胶材(90)、及位于所述封装胶材(90)上方覆盖所述基板(10)的盖板(100);所述基板(10)上具有数个阵列排布的蓝色子像素区域、绿色子像素区域、及红色子像素区域;所述蓝光OLED(30)包括形成于所述蓝色子像素区域上的第一阳极(31)、形成于所述第一阳极(31)上的蓝光空穴注入层(32)、及形成于所述蓝光空穴注入层(32)上的蓝光空穴传输层(33);所述绿光QLED(40)包括形成于所述绿色子像素区域上的第二阳极(41)、形成于所述第二阳极(41)上的绿光空穴注入层(42)、形成于所述绿光空穴注入层(42)上的绿光空穴传输层(43)、及形成于所述绿光空穴传输层(43)上的绿光发光层(44);所述红光QLED(50)包括形成于所述红色子像素区域上的第三阳极(51)、形成于所述第三阳极(51)上的红光空穴注入层(52)、形成于所述红光空穴注入层(52)上的红光空穴传输层(53)、及形成于所述红光空穴传输层(53)上的红光发光层(54);所述蓝光OLED(30)、绿光QLED(40)、及红光QLED(50)还共同包括形成于所述蓝光空穴传输层(33)、绿光发光层(44)、及红光发光层(54)上的蓝光共同层(34)、形成于所述蓝光共同层(34)上的蓝光发光层(35)、形成于所述蓝光发光层(35)上的电子传输层(60)、形成于所述电子传输层(60)上的电子注入层(70)、及形成于所述电子注入层(70)上的阴极(80);所述蓝光共同层(34)用于将空穴从蓝光空穴传输层(33)传输到蓝光发光层(35)和将电子传输到绿光发光层(44)和红光发光层(54);所述绿光发光层(44)和红光发光层(54)均为QLED发光层,所述蓝光发光层(35)为OLED发光层;所述蓝光发光层(35)的膜厚为5nm至50nm;所述绿光发光层(44)和红光发光层(54)的膜厚均为1nm至100nm。
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