[发明专利]一种磁控溅射用的靶背板及磁控溅射装置有效
| 申请号： | 201610290495.5 | 申请日： | 2016-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN105734516B | 公开（公告）日： | 2018-01-26 |
| 发明（设计）人： | 邢宏伟;穆慧慧;吴斌;李冬青;石旭;王小军;吴祥一 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种磁控溅射用的靶背板及磁控溅射装置，涉及磁控溅射技术领域，用于在提高靶材的利用率的同时，提高形成在待镀膜基片上的成膜膜厚的均匀性。本发明所公开的磁控溅射用的靶背板，在所述靶背板的内部设置有冷却液通道，在所述靶背板的背面设置有多个磁体，所述靶背板的冷却液通道内设置有导磁片，所述导磁片与多个所述磁体所产生的磁场的磁场强度最强区对应。本发明提供的磁控溅射用的靶背板及磁控溅射装置用于平面镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 背板 装置 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射用的靶背板，所述靶背板内设置有冷却液通道，且所述靶背板的背面设置有多个磁体，其特征在于，所述靶背板的冷却液通道内设置有导磁片，所述导磁片与多个所述磁体所产生的磁场的磁场强度最强区对应；所述靶背板为长条状背板，一部分所述磁体沿所述长条状背板的长度方向间隔排列成至少三行，余下的另一部分所述磁体沿所述长条状背板的宽度方向排列成两列，且两列所述磁体分别位于所述长条状背板的相对的两端；多个所述磁体所产生的磁场的磁场强度最强区位于所述长条状背板的两端，所述长条状背板的两端的冷却液通道内各设有一个所述导磁片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610290495.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
