[发明专利]互补金属氧化物半导体影像感测器及形成方法有效

专利信息
申请号: 201610294777.2 申请日: 2016-05-06
公开(公告)号: CN107346775B 公开(公告)日: 2019-01-01
发明(设计)人: 吴扬;依那.派翠克;张宇轩;金起弘;郁飞霞 申请(专利权)人: 恒景科技股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L29/06;H01L29/423;H01L21/28
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种互补金属氧化物半导体影像感测器及形成方法。该互补金属氧化物半导体影像感测器包含第二型的注入区,形成于第一型的晶体层内。传输栅的通道整个覆盖注入区,该注入区的部分结合光二极管、掺杂阱区及浮动扩散节点。
搜索关键词: 互补 金属 氧化物 半导体 影像 感测器 形成 方法
【主权项】:
1.一种互补金属氧化物半导体影像感测器,包含:基底;第一型的晶体层,形成于该基底上;光二极管,形成于该晶体层内;至少一个第一型的掺杂阱区,形成于该晶体层内;传输栅,形成于该晶体层的顶面,该传输栅部分覆盖该光二极管的边缘及该掺杂阱区的边缘;浮动扩散节点,位于该掺杂阱区内;及第二型的注入区,形成于该晶体层内,该注入区的部分结合该光二极管、该掺杂阱区及该浮动扩散节点,且该注入区被该传输栅的通道整个覆盖,其中该注入区的一部分具楔形,其宽度随远离该光二极管而逐渐改变。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恒景科技股份有限公司,未经恒景科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610294777.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top