[发明专利]用于在金属工件上保留标记的方法在审

专利信息
申请号: 201610296725.9 申请日: 2016-05-06
公开(公告)号: CN106591850A 公开(公告)日: 2017-04-26
发明(设计)人: 雷伯特·L·特立尼达;何塞·马里·I·欧碧昂;奥维尔·T·彭戴昂 申请(专利权)人: 依卡莎科技控股有限公司
主分类号: C23F17/00 分类号: C23F17/00;B44C1/22
代理公司: 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙)44312 代理人: 寇闯
地址: 维尔京群岛*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种在从带有标记的金属工件的表面除去表面材料的化学蚀刻过程之前在所述工件上保留所述标记的方法,所述方法包括以下步骤相对于所述表面加深所述标记以形成第一深度;以及将填充材料沉积到所述第一深度中,其中所述填充材料适合于在化学处理过程期间除去,以使得在化学处理过程之后在所述标记处获得第二深度。本发明还涉及一种处理金属工件以在所述工件的表面上保留标记的方法,所述方法包括以下步骤处理所述工件的表面的围绕所述标记的至少一部分以从所述标记除去至少表面氧化物层,所述处理步骤被布置成使得它不会从所述工件的表面的所述部分除去全部表面材料,而是从所述标记除去至少所述表面氧化物层。
搜索关键词: 用于 金属 工件 保留 标记 方法
【主权项】:
一种用于在从带有标记的金属工件的表面除去表面材料的化学处理过程之前在所述金属工件上保留所述标记的方法,所述方法包括以下步骤:相对于所述表面加深所述标记以形成第一深度;以及将填充材料沉积到所述第一深度中,其中所述填充材料适合于在所述化学处理过程期间除去,以使得在所述化学处理过程之后在所述标记处获得第二深度。
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