[发明专利]研磨垫及其形成方法、研磨监测方法有效
| 申请号： | 201610297881.7 | 申请日： | 2016-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN107344328B | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 曹均助;刘洪涛 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11;B24B37/005;B24B37/34 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 高静;吴敏 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种研磨垫及其形成方法、研磨监测方法，其中研磨垫包括：研磨层，所述研磨层具有相对的第三表面和第四表面，所述第四表面用于研磨待研磨面；阻挡层，嵌在研磨层内，所述阻挡层与第四表面之间的距离大于零，所述阻挡层适于给出更换研磨垫的信号。由于所述研磨垫具有阻挡层，所述阻挡层适于给出更换研磨垫的信号，使得对研磨垫的有效利用率最大化。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 及其 形成 方法 监测 | ||
【主权项】：
一种研磨垫，其特征在于，包括：研磨层，所述研磨层具有相对的第三表面和第四表面，所述第四表面用于研磨待研磨面；阻挡层，嵌在研磨层内，所述阻挡层与第四表面之间的距离大于零，所述阻挡层适于给出更换研磨垫的信号。
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