[发明专利]金属光栅偏光片及其制作方法有效
申请号: | 201610303897.4 | 申请日: | 2016-05-09 |
公开(公告)号: | CN105785493B | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | 陈黎暄 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G03F7/00 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种金属光栅偏光片及其制作方法。本发明的金属光栅偏光片,包括基板(10)、及形成在基板(10)上的数条金属光栅;所述金属光栅分为高度不同的第一线栅(21)和第二线栅(22),可以形成一种双周期的光栅结构,从而达成更好的光学性能,具有较多的全局优化参数使得调控其光学性能变得更为科学和灵活。本发明的金属光栅偏光片的制作方法,可以制作出高度层次变化的光栅结构,且制备工艺简单。 | ||
搜索关键词: | 金属 光栅 偏光 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种金属光栅偏光片的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、提供金属衬底(100),在金属衬底(100)上表面涂覆一层光胶(300);步骤2、提供压印模板(500),将压印模板放置在光胶(300)上进行纳米压印,使金属衬底(100)上的光胶(300)形成间隔排布的数条第一光阻条(310)和数条第二光阻条(320),其中,第一光阻条(310)的高度大于第二光阻条(320)的高度;步骤3、移去压印模板(500),以光胶(300)为遮蔽层,对金属衬底(100)进行干法蚀刻,在金属衬底(100)上形成数条金属光栅,所述金属光栅分为第一线栅(21)和第二线栅(22),其中第一线栅(21)对应所述第一光阻条(310)形成,第二线栅(22)对应所述第二光阻条(320)形成,得到包括基板(10)、及基板(10)上的数条金属光栅的金属光栅偏光片;其中,数条第一线栅(21)和数条第二线栅(22)在基板(10)上交错设置且呈周期排列,所述第一线栅(21)具有第一高度H1,所述第二线栅(22)具有第二高度H2,所述第一线栅(21)和第二线栅(22)的高度关系满足(H1‑H2)/H1>10%。
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