[发明专利]一种抛光复合机床及抛光方法

摘要

本发明提供了一种抛光复合机床及抛光方法，包括运动平台、循环系统、磁流变抛光装置、射流抛光装置和控制器，光学元件安装在运动平台上，在运动平台的带动下，光学元件在水平面上移动，磁流变抛光装置或射流抛光装置在控制器的控制下对光学元件的表面抛光，循环系统为磁流变抛光装置提供抛光液A，为射流抛光装置循环提供抛光液B或水；控制器控制运动平台的运动和磁流变循环系统、射流循环系统的工作顺序。本发明的抛光复合机床融合了磁流变和射流两种抛光方式的优势，能够实现多级抛光或抛光清洗复合加工方法，解决了现有的单一抛光装置加工能力有限，而分别在两台机床上加工存在装卸调试频繁、容易划伤污染的问题。

主权项

一种抛光复合机床，其特征在于：所述的抛光复合机床包括运动平台（1）、循环系统（5）、磁流变抛光装置、射流抛光装置和控制器（6），光学元件（11）安装在所述的运动平台（1）上，在运动平台（1）的带动下，光学元件（11）在水平面上移动，磁流变抛光装置或射流抛光装置在控制器（6）的控制下对光学元件（11）的表面抛光，循环系统（5）为磁流变抛光装置循环提供抛光液A，为射流抛光装置循环提供抛光液B或水；所述的控制器控制运动平台（1）的运动和磁流变循环系统、射流循环系统的工作顺序；所述的循环系统（5）包括磁流变循环系统和射流循环系统；所述的磁流变循环系统的抛光液A从磁流变储液罐（15）流出经磁流变回路（17）到达磁流变抛光头（3）抛光光学元件（11），经磁流变抛光头（3）回收至磁流变储液罐（15）；所述的射流循环系统的抛光液B从射流储液罐（16）流出经射流回路（18）到达射流喷嘴（4）抛光光学元件（11），经回收罩（12）回收至射流储液罐（16）；所述的射流循环系统的水从清水池（13）流出经射流回路（18）到达射流喷嘴（4）清洗光学元件（11），经回收罩（12）回收至废液池（14）。