[发明专利]一种失效分析中分析晶格缺陷的TEM样品制备新方法在审

专利信息
申请号: 201610316827.2 申请日: 2016-05-13
公开(公告)号: CN106018018A 公开(公告)日: 2016-10-12
发明(设计)人: 王炯翀;王亮;何永强;刘焱;苏耿贤;陈越 申请(专利权)人: 苏州博飞克分析技术服务有限公司
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司11246 代理人: 连平
地址: 215000 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种失效分析中分析晶格缺陷的TEM样品制备新方法。该方法使用手动研磨代替聚焦离子束来制备TEM样品,使样品中的晶格缺陷在极小或极浅的情况下均能被发现,而且不受晶格缺陷的方向的影响。极大地促进了晶格缺陷的发现与观测,准确率高,对TEM样品的制备的研究具有重要意义。
搜索关键词: 一种 失效 分析 晶格 缺陷 tem 样品 制备 新方法
【主权项】:
一种失效分析中分析晶格缺陷的TEM样品制备新方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将样品研磨到接触孔,在聚焦离子束中找到需要观测的点,在其附近分别做一个横向和纵向的记号;(2)然后浸泡到氢氟酸中,待硅衬体露出来后,将样品表面用粘结材料粘在载玻片上;(3)用手动研磨机进行背面减薄至TEM薄度,然后将金属环粘在样品上,用美工刀沿金属环外侧将其割裂,放入丙酮泡到将样品和载玻片分离;(4)将制备好的样品放入TEM进行物理失效分析。
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