[发明专利]一种失效分析中分析晶格缺陷的TEM样品制备新方法在审
申请号: | 201610316827.2 | 申请日: | 2016-05-13 |
公开(公告)号: | CN106018018A | 公开(公告)日: | 2016-10-12 |
发明(设计)人: | 王炯翀;王亮;何永强;刘焱;苏耿贤;陈越 | 申请(专利权)人: | 苏州博飞克分析技术服务有限公司 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司11246 | 代理人: | 连平 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种失效分析中分析晶格缺陷的TEM样品制备新方法。该方法使用手动研磨代替聚焦离子束来制备TEM样品,使样品中的晶格缺陷在极小或极浅的情况下均能被发现,而且不受晶格缺陷的方向的影响。极大地促进了晶格缺陷的发现与观测,准确率高,对TEM样品的制备的研究具有重要意义。 | ||
搜索关键词: | 一种 失效 分析 晶格 缺陷 tem 样品 制备 新方法 | ||
【主权项】:
一种失效分析中分析晶格缺陷的TEM样品制备新方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将样品研磨到接触孔,在聚焦离子束中找到需要观测的点,在其附近分别做一个横向和纵向的记号;(2)然后浸泡到氢氟酸中,待硅衬体露出来后,将样品表面用粘结材料粘在载玻片上;(3)用手动研磨机进行背面减薄至TEM薄度,然后将金属环粘在样品上,用美工刀沿金属环外侧将其割裂,放入丙酮泡到将样品和载玻片分离;(4)将制备好的样品放入TEM进行物理失效分析。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州博飞克分析技术服务有限公司,未经苏州博飞克分析技术服务有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610316827.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种等速采样的环境空气采样器
- 下一篇:一种水压法测量硅片机械强度的装置