[发明专利]氮化锌膜、触摸屏盖板及膜的制备方法、应用

摘要

本发明公开了一种氮化锌膜、触摸屏盖板及膜的制备方法、应用。氮化锌薄膜的制备方法包括下述步骤：以氮气作为溅射气体和反应气体，用锌靶反应溅射形成氮化锌薄膜；反应溅射的工作气压为2×10‑3～11×10‑3mbar，镀膜功率为5～15kW，厚度为10～50nm。本发明的氮化锌薄膜均匀完整，锌元素全部氮化，表面反射率较低，可用于触摸屏盖板BM区遮光层中；本发明的触摸屏盖板膜生产效率高、镀膜良率高、生产成本低；表面硬度高，抗刮伤性能和耐磨性较强；表面能较高，能够有效的贴合液晶显示器；可消除段差效应。

主权项

1.一种氮化锌薄膜的制备方法，其特征在于，其包括下述步骤：以氮气作为溅射气体和反应气体，用锌靶反应溅射形成氮化锌薄膜；其中，所述反应溅射的工作气压为2×10‑3～11×10‑3mbar；所述反应溅射的过程中，镀膜功率为5～15kW；所述氮化锌薄膜的厚度为10～50nm；所述氮气的纯度为99.99％；所述氮气的体积流量为600～1400sccm；所述锌靶的纯度为99.99％以上；所述锌靶的用量为1～2个旋转阴极锌靶；在所述反应溅射的过程中，本底真空度为≤9×10‑6mbar；所述锌靶与衬底的距离为50～90mm；工作温度为80℃；镀膜的方式为水平行进式，在水平行进过程中，线速度为2～4m/min；所述氮化锌薄膜成型于衬底上，氮化锌薄膜对可见光有较强的吸收，外观呈黑色，作为黑色膜的功能层；所述衬底为树脂基板或玻璃基板，当所述衬底为树脂基板时，所述氮化锌薄膜与所述树脂基板之间，还包括一厚度为10～20nm的氧化硅薄膜。