[发明专利]一种耐划伤透明膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201610349436.0 | 申请日： | 2016-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN107422402B | 公开（公告）日： | 2022-11-18 |
| 发明（设计）人： | 周群飞;饶桥兵;郭射宇 | 申请（专利权）人： | 蓝思科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;G02B1/18;G02B1/14 |
| 代理公司： | 长沙七源专利代理事务所(普通合伙) 43214 | 代理人： | 欧颖 |
| 地址： | 410329 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： |
本发明提供一种耐划伤透明膜，包括依次覆盖在基材上的AR膜层和AF膜层，所述AR膜层包括至少一层高折射率层和至少一层低折射率层，且所述耐划伤透明膜上紧贴AF膜层设置的一层为低折射率层；其中至少有一层高折射率层为包含四层以上子层的复合交替膜层，所述复合交替膜层的子层为选自TiO |
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| 搜索关键词： | 一种 划伤 透明 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种耐划伤透明膜，包括依次覆盖在基材(1)上的AR膜层(2)和AF膜层(3)，所述AR膜层(2)包括至少一层高折射率层(21)和至少一层低折射率层(22)，且所述耐划伤透明膜上紧贴AF膜层(3)设置的一层为低折射率层(22)；其中至少有一层高折射率层(21)为包含四层以上子层的复合交替膜层，所述复合交替膜层的子层为选自TiO2层、ZrO2层、La2O3层、Ta2O5层、HfO2层、Si3N4层、AlON层、AlN层、Nb2O5层、ZnO层、SnO2层、In2O3层和InSnO层中的两种或三种，因而复合交替膜层中第一子层a(211)和第二子层b(212)的数量均为2以上而形成abab型交替结构，或第一子层a(211)、第二子层b(212)和第三子层c的数量均为2以上而形成abcabc型的交替结构；且所述复合交替膜层中的子层的膜厚度均为2.5～20nm；所述低折射率层为SiO2层或低折射率层中包含SiO2子层，低折射率层中的其它子层为选自MgF2层、NaF层和Al2O3层中的一种或多种。
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