[发明专利]磁控管及磁控溅射系统有效
| 申请号： | 201610371827.2 | 申请日： | 2016-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN107447195B | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 杨玉杰;张禄禄 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人： | 孙向民 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 公开了一种磁控管及磁控溅射系统。所述磁控管可以包括内磁极和外磁极，所述外磁极围绕所述内磁极，所述外磁极与所述内磁极的磁极方向相反，其特征在于，所述磁控管还包括：辅助磁组，所述辅助磁组包括多个磁柱，所述多个磁柱的磁极方向与所述磁控管的磁极方向相同。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控管 磁控溅射 系统 | ||
【主权项】：
一种磁控管，包括内磁极和外磁极，所述外磁极围绕所述内磁极，所述外磁极与所述内磁极的磁极方向相反，其特征在于，所述磁控管还包括：辅助磁组，所述辅助磁组包括多个磁柱，所述多个磁柱的磁极方向与所述磁控管的磁极方向相同。
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