[发明专利]光刻机刀口组、大视场光刻机和曝光方法有效

专利信息
申请号: 201610378442.9 申请日: 2016-05-31
公开(公告)号: CN107450271B 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 王斌;杨晓峰;夏洪发 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种光刻机刀口组、大视场光刻机和曝光方法,在测试时,扫描向刀口组移动一次进行光照测试,测试完成后移动至对准标记上方;在曝光时,扫描向刀口组跟随掩模台以相同的速度和相同的方向移动,使扫描向刀口组与掩模版的对准标记保持相对静止。若为全视场曝光,非扫描向刀口组无需移动,若为局部曝光,则使非扫描向刀口组移动至局部曝光的视场处,由非扫描向刀口组形成的窗口形成控制照明光光斑的形状,然后非扫描向刀口组可保持绝对静止,只需移动掩模台和工作台,即可从一个曝光区域移出该曝光视场,另一个曝光区域移入该曝光视场,继续进行曝光,从而完成所有曝光区域的曝光。本发明无需设置多套刀口组,结构简单,降低对控制精度的要求。
搜索关键词: 光刻 刀口 视场 曝光 方法
【主权项】:
1.一种大视场光刻机的曝光方法,所述大视场光刻机具有多个曝光区域,其特征在于,包括如下步骤:步骤一:扫描向刀口组包括长度方向互相平行前刀片和后刀片,在曝光前,所述后刀片上设置有狭缝,在掩模台下方设置有传感器,在测试时,所述前刀片固定在对准区域上方,所述后刀片沿着扫描方向移动,所述传感器通过接收依次透过所述狭缝和掩模台的照明光,得到在该曝光区域内的照明光的光照参数,其中,掩模版具有两个呈对称分布的对准区域和若干个呈阵列排布的图形区域,两个所述对准区域位于所述掩模版两侧,每个所述图形区域对应一个曝光区域,在水平面上与扫描方向正交的方向定义为非扫描方向;步骤二:在全视场曝光时,非扫描向刀口组则无需进行移动;在局部曝光时,所述后刀片移动至所述掩模版另一侧的对准区域上,由非扫描向刀口组移动至曝光区域内形成用于修剪照明光的光斑的窗口,对所述曝光区域曝光;曝光时,所述扫描向刀口组对于所述掩模台保持相对静止,所述非扫描向刀口组保持静止;步骤三:所述掩模台和工件台在所述扫描方向上按照同一方向、同一速度移动,重复步骤一和步骤二对下一个曝光区域进行曝光。
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