[发明专利]一种金属掩膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201610379837.0 | 申请日： | 2016-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN107447191A | 公开（公告）日： | 2017-12-08 |
| 发明（设计）人： | 高志豪 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;G03F7/00;H01L21/027;H01L27/32 |
| 代理公司： | 上海隆天律师事务所31282 | 代理人： | 臧云霄,李峰 |
| 地址： | 201506 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种金属掩膜，包括开孔区，包括多个通孔；以及半开孔区，包括多个凹槽，所述多个凹槽表面低于所述金属掩膜的表面；其中,所述开孔区与所述半开孔区不相互重叠。本发明同时还提供一种金属掩膜的制备方法，包括如下步骤(1)提供一掩膜底板，其具有第一面及与其相对的第二面，至少在所述第一面上涂布感光光阻；(2)对所述掩膜底板曝光、显影、蚀刻，从而在第一面上形成开孔区与半开孔区，所述开孔区与所述半开孔区不相互重叠，所述开孔区包括不通透的多个预备孔，所述半开孔区包括多个凹槽，所述多个凹槽的表面低于所述第一面；(3)在所述掩膜底板的第二面上涂布感光光阻，并曝光、显影，随后仅在该面上与第一面开孔区的多个预备孔相应位置进行蚀刻，使所述多个预备孔形成通孔。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种金属掩膜，其特征在于，包括：开孔区，包括多个通孔；以及半开孔区，包括多个凹槽，所述多个凹槽表面低于所述金属掩膜的表面；其中,所述开孔区与所述半开孔区不相互重叠。
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