[发明专利]MEMS麦克风及其制备方法

摘要

本发明涉及一种MEMS麦克风，包括基板、下电极层、牺牲层、应力层和上电极层，基板的中部设有第一开口，下电极层横跨于基板上；牺牲层、应力层、上电极层依次层叠在下电极层上，并在牺牲层、应力层上开设第二开口；应力层的厚度与基板的翘曲程度相匹配。上述MEMS麦克风，可根据半导体基板的翘曲或形变程度改变应力层的厚度，使应力层的厚度或应力与基板的翘曲程度相匹配，通过改变应力层的厚度和应力，进而对基板施加与基板变形方向相反的力，以减轻或消除基板的变形。此外，还提供一种MEMS麦克风的制备方法，该制备方法可以与现有MEMS麦克风制造工艺完美兼容、便于生产、成本低、成品率高。

主权项

一种MEMS麦克风，其特征在于，包括基板、下电极层、牺牲层、应力层和上电极层，所述基板的中部设有第一开口，所述下电极层横跨于所述基板上；所述牺牲层、应力层、上电极层依次层叠在所述下电极层上，并在所述牺牲层、应力层上开设第二开口；所述应力层的应力方向与所述基板的翘曲方向相反，所述应力层的厚度根据所述基板的翘曲程度确定；所述第二开口与所述第一开口对应设置。