[发明专利]辐射计及其制造方法有效
| 申请号： | 201610398688.2 | 申请日： | 2016-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN107478343B | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 费跃;王旭洪;张颖 | 申请（专利权）人： | 上海新微技术研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G01J5/22 | 分类号： | G01J5/22;B81B7/02;B81C1/00;B82B3/00 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 201800 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种辐射计及其制造方法，所述辐射计包括：辐射计单元，所述辐射计单元包括：衬底，所述衬底具有相对的第一表面和第二表面；位于衬底第一表面一侧的第一凹槽；悬梁，所述悬梁包括梁臂和锚点，所述梁臂悬空于第一凹槽上方，所述锚点位于衬底第一表面上；位于所述梁臂一侧侧壁表面的吸收层；位于所述衬底第二表面一侧的第二凹槽，所述第一凹槽与第二凹槽贯通，所述第二凹槽位于所述梁臂的纵向投影内。上述辐射计的体积较小。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射计 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种辐射计，其特征在于，包括：辐射计单元，所述辐射计单元包括：衬底，所述衬底具有相对的第一表面和第二表面；位于衬底第一表面一侧的第一凹槽；悬梁，所述悬梁包括梁臂和锚点，所述梁臂悬空于第一凹槽上方，所述锚点位于衬底第一表面上；位于所述梁臂一侧侧壁表面的吸收层；位于所述衬底第二表面一侧的第二凹槽，所述第一凹槽与第二凹槽贯通，所述第二凹槽位于所述梁臂的纵向投影内。
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