[发明专利]测量膜制造设备上的实时膜厚度的全宽阵列成像传感器的用途有效
申请号: | 201610398755.0 | 申请日: | 2016-06-07 |
公开(公告)号: | CN106257234B | 公开(公告)日: | 2019-05-10 |
发明(设计)人: | P·S·博尼诺;R·P·赫尔洛斯基;J·M·勒费夫尔 | 申请(专利权)人: | 施乐公司 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人: | 郑建晖;关丽丽 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供一种用于利用分光光度计提供膜厚度分析的方法,包括将照明装置构造成向沉积在基底表面上的膜发出光束,将线性传感器构造成经由梯度折射率透镜和线性可变滤光器接收从基底表面上的沉积膜反射的光,以及将处理器构造成基于从线性传感器接收的膜的光谱反射率确定膜的厚度。 | ||
搜索关键词: | 测量 制造 设备 实时 厚度 阵列 成像 传感器 用途 | ||
【主权项】:
1.一种用于利用分光光度计提供膜厚度分析的方法,所述方法包括:将第一照明装置构造成向沉积在基底表面上的第一膜发出光束,所述第一照明装置定位成靠近所述基底表面;将第一线性传感器构造成经由梯度折射率透镜和第一线性可变滤光器接收从所述基底表面上的沉积的第一膜反射的光,所述第一线性传感器定位成靠近基底,所述梯度折射率透镜被设置在从所述基底表面反射的光束的光路中,并被定位在所述基底表面与第一线性可变滤光器之间,以及所述第一线性可变滤光器被设置在从所述基底表面反射的光的光路中,并且被定位在所述第一线性传感器与所述梯度折射率透镜之间;将处理器构造成基于从所述线性传感器接收的膜的光谱反射率确定所述膜的厚度,将第二照明装置构造成在布置于所述第一膜上的第二膜处发出光束;在与所述第一线性传感器不同的位置处构造第二线性传感器,以经由第二梯度折射率透镜和第二线性可变滤光器接收从布置在所述第一膜上的第二膜反射的光,所述第二线性传感器定位成靠近所述基底,所述第二梯度折射率透镜被设置在从所述第一膜的表面反射的光的光路中,并被定位在所述第一膜的表面与第二线性可变滤光器之间,以及所述第二线性可变滤光器被设置在从所述第一膜的表面反射的光束的光路中,并被定位在所述第二线性传感器与所述第二梯度折射率透镜之间;以及将所述处理器构造成基于从所述第二线性传感器接收的所述第二膜的光谱反射率确定所述第二膜的厚度,其中,所述第一线性可变滤光器是具有带通涂层的光学滤光器,所述带通涂层的特性跨过所述第一线性可变滤光器的长度是变化的,以便跨过所述第一线性可变滤光器的长度线性地偏移所述第一线性可变滤光器的中心波长;以及其中,所述第二线性可变滤光器是具有带通涂层的光学滤光器,所述带通涂层的特性跨过所述第二线性可变滤光器的长度是变化的,以便跨过所述第二线性可变滤光器的长度线性地偏移所述第二线性可变滤光器的中心波长。
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