[发明专利]流体处理装置

摘要

本申请公开了一种流体处理装置，包括：基体，包含具有流体入、出口的第一流体通道，该流体入口分布于该基体的第一表面的第一区域内；流体阻挡部，具有与该第一表面相对设置的第二表面；多个凸起部，所述凸起部沿横向在所述第一表面的第二区域连续延伸，其中相邻凸起部之间形成有可供流体通过的沟槽，并且所述凸起部具有沿横向相背对的第一、第二端，该第一端与该第一表面密封连接，该第二端的局部区域与该第二表面密封连接，从而使所述多个凸起部、流体阻挡部与基体配合形成与第一流体通道连通的第二流体通道。本申请的流体处理装置具有通量大、流阻小、能高效清除流体中微/纳米级颗粒等特点，可重复使用，使用寿命长，且适于规模化大批量生产。

主权项

一种流体处理装置，其特征在于包括：具有第一流体通道的基体，所述第一流体通道具有流体入口和流体出口，所述第一流体通道的流体入口分布于所述基体的第一表面的第一区域内；流体阻挡部，具有与所述基体的第一表面相对设置的第二表面，用于阻止待处理流体直接进入所述第一流体通道的流体入口；复数个凸起部，所述凸起部沿横向在所述基体的第一表面的第二区域连续延伸，其中相邻凸起部之间形成有可供流体通过的沟槽，所述沟槽的开口部的口径大于0但小于混杂于待处理的流体内的选定颗粒的粒径，并且所述凸起部的上端与所述基体的第一表面密封连接，下端的局部区域与所述流体阻挡部的第二表面密封连接，从而使所述复数个凸起部之间的一个以上沟槽、流体阻挡部与基体配合形成第二流体通道，且待处理的流体仅能通过所述第二流体通道进入第一流体通道。