[发明专利]一种三氧化钼纳米棒的制备方法

摘要

本发明公开了一种三氧化钼纳米棒的制备方法，属于金属微加工技术领域，它包括制作金属钼基底、制作刻蚀溶液、深度刻蚀金属钼使其形成氧化层、制备三氧化钼纳米棒四大步骤，经扫描电子显微镜（SEM）观察，在AgNO3溶液浓度为0.01 M、HNO3溶液浓度为3.6 M、温度为（20±2）℃、刻蚀90 min、600℃下程控退火两小时后制备氧化钼纳米材料有良好的形貌。该方法操作简单、造价低廉并且利于控制反应进程，有利于推进大规模制备氧化钼纳米材料进程。

主权项

一种三氧化钼纳米棒的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：第一步：制作金属钼基底A、选取纯度为99.99%的钼箔，规格为1 cm * 1 cm * 0.1 cm；B．通过五步超声清洗，去除钼箔表面杂质，分别是：去离子水，时间：5min；丙酮，时间：5min；去离子水，时间：5min；1M NaOH溶液，时间：5min；去离子水，时间：5min；C．室温下晾干；第二步：制作刻蚀溶液所述的刻蚀溶液成分及配比如下：A．HNO3质量分数为65%，加去离子水稀释配置其物质的量浓度为3.6M，HNO3与H2O体积比为1:3；B．配置AgNO3物质的量浓度为0.01M，方法是取0.034g AgNO3放入20ml的A溶液中；C．将B中配置的溶液放入超声仪中超声5min，目的是使溶液均匀，备用；第三步：深度刻蚀金属钼，将金属钼基底浸入刻蚀溶液中刻蚀形成氧化层A．将第一步中制得的金属钼基底浸入第二步中的刻蚀溶液中刻蚀90min，保证室温20±5 ℃；B．将A中刻蚀后的样品放入物质的量浓度为3.6M的HNO3溶液中浸泡30s；C．将经过B处理后的样品取出，室温下晾干；第四步：制备三氧化钼纳米棒将第三步中处理的样品放入管式炉，600℃退火2h，10℃/min，得到三氧化钼纳米棒。