[发明专利]一种高效率晶体硅太阳电池有效
申请号: | 201610445415.9 | 申请日: | 2016-06-21 |
公开(公告)号: | CN106098811B | 公开(公告)日: | 2017-12-12 |
发明(设计)人: | 刘爱民;谭鑫;魏一 | 申请(专利权)人: | 锦州华昌光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0256 | 分类号: | H01L31/0256;H01L31/18 |
代理公司: | 北京方安思达知识产权代理有限公司11472 | 代理人: | 徐淑东,王宇杨 |
地址: | 121000 辽宁省锦*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明提供一种高效率晶体硅太阳电池,所述高效率晶体硅太阳电池包括依次叠置的上电极、钝化减反射SiN层、磷扩散层、基体晶体硅片、铝的扩散层、调节层和下电极;所述调节层包括介质材料和/或导电膜膜材料;或量子阱材料。本发明还公开了一种高效率晶体硅太阳电池的制备方法。本发明高效率晶体硅太阳电池构简单,制备成本低廉,能够利用传统的太阳电池生产线简单升级来完成电池制备。 | ||
搜索关键词: | 一种 高效率 晶体 太阳电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种高效率晶体硅太阳电池,其特征在于,包括依次叠置的上电极、钝化减反射SiN层、磷扩散层、基体晶体硅片、铝的扩散层、调节层和下电极;所述调节层包括:介质材料和/或导电膜膜材料;或量子阱材料;所述高效率晶体硅太阳电池的制备包括以下步骤:第一步:清洗基体晶体硅片,并对其双面制绒;第二步:利用三氯氧磷扩散的方法在基体晶体硅片制备磷扩散层;第三步:利用化学气相沉积方法在磷扩散层背离基体晶体硅片的一侧沉积钝化减反射SiN层;第四步:利用磁控溅射或化学气相沉积方法或原子层沉积技术在晶体硅片背离磷扩散层的一侧沉积调节层;第五步:在钝化减反射SiN层背离磷扩散层的一侧印刷制备上电极,在调节层背离基体晶体硅片的一侧印刷制备下电极;烘烤烧结:在N2气氛下对硅片进行烘干,之后在N2气氛下对硅片进行850‑900℃高温烧结,烧结后下电极中的铝向基体晶体硅片扩散,形成铝扩散层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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