[发明专利]氙灯准分子紫外光氧化真空设备及其使用方法在审
申请号: | 201610473918.7 | 申请日: | 2016-06-24 |
公开(公告)号: | CN107546100A | 公开(公告)日: | 2018-01-05 |
发明(设计)人: | 陶海华;陈险峰;苏树彬;王国征;张子宇;吴艺璇 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学;上海国达特殊光源有限公司 |
主分类号: | H01J61/16 | 分类号: | H01J61/16;H01J61/28 |
代理公司: | 上海汉声知识产权代理有限公司31236 | 代理人: | 郭国中 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供的一种氙灯准分子紫外光氧化真空设备及其使用方法,包括真空腔室,在真空腔室内设有控制机构;氙灯准分子放电管,氙灯准分子放电管设置在真空腔室内部,在氙灯准分子放电管内设有水冷装置,氙灯准分子放电管与控制机构连接;样品架,样品架从外侧穿过真空腔室的底部进入真空腔室内部,并且样品架与氙灯准分子放电管平行;氧气入口、氮气入口及排气口,氧气入口、氮气入口及排气口设置在真空腔室的侧壁上,氧气入口、氮气入口及排气口与真空腔室的内腔连通;控制系统设置在真空腔室上。与现有技术相比,本发明的有益效果如下采用氙灯准分子放电管,其发射172nm波长的紫外光,通过调控真空腔室内氧气含量,即可在常温下对材料表面实现高强度紫外光氧化。 | ||
搜索关键词: | 氙灯 分子 紫外 光氧化 真空设备 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
一种氙灯准分子紫外光氧化真空设备,其特征在于,包括:真空腔室,在真空腔室内设有控制机构;氙灯准分子放电管,氙灯准分子放电管设置在真空腔室内部,在氙灯准分子放电管内设有水冷装置,氙灯准分子放电管与控制机构连接;样品架,样品架从外侧穿过真空腔室的底部进入真空腔室内部,并且样品架与氙灯准分子放电管平行;氧气入口、氮气入口及排气口,氧气入口、氮气入口及排气口设置在真空腔室的侧壁上,氧气入口、氮气入口及排气口与真空腔室的内腔连通;控制系统设置在真空腔室上。
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