[发明专利]一种提高CZTS/CdS异质结整流比的方法有效
申请号: | 201610491387.4 | 申请日: | 2016-06-29 |
公开(公告)号: | CN105914244B | 公开(公告)日: | 2017-07-04 |
发明(设计)人: | 程树英;董丽美;赖云锋;龙博;俞金玲;张红 | 申请(专利权)人: | 福州大学 |
主分类号: | H01L31/0296 | 分类号: | H01L31/0296;H01L31/032;H01L31/072;H01L31/18;H01L21/02 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司35100 | 代理人: | 蔡学俊 |
地址: | 350108 福建省福州市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明公开了一种提高CZTS/CdS异质结整流比的方法和应用,属于半导体材料与器件技术领域。在真空条件下,使Ar气等离子化,并且在CZTS薄膜表面进行等离子体处理。等离子体对CZTS薄膜表面即CZTS/CdS异质结界面进行处理,不仅可以修饰其界面、减少缺陷,而且操作简单,处理后的CZTS/CdS异质结整流比有明显提高,有利于提高太阳能电池的转化效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 czts cds 异质结 整流 方法 | ||
【主权项】:
一种提高CZTS/CdS异质结整流比的方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)选择柔性钼箔作为底电极,在浓硫酸和甲醇体积比1:7的混合溶液中进行清洗,最后用去离子水冲干净并用氮气吹干;(2)利用溶胶凝胶法在钼箔上制备金属预制层薄膜,其后进行硫化从而得到CZTS薄膜;(3)将(2)的CZTS薄膜进行等离子体处理,包括以下步骤:A、将所述CZTS薄膜放置于腔室中,并抽真空至0.1Pa以下;B、 在所述真空腔室中通入气流为48 sccm的Ar气,并保持腔室气压为100Pa,然后起辉;C、调整节流阀使所述真空腔室保持在120Pa, 施加80~120W射频功率于腔室内的气体,使其等离子化,并保持等离子体对CZTS薄膜的作用时间为120s;(4)采用化学水浴法在(3)所得的等离子体处理后的CZTS薄膜表面沉积CdS薄膜;(5)采用蒸发法在(4)制得的样品表面镀一层铝电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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