[发明专利]一种均匀性的多弧离子镀膜设备

摘要

本发明涉及一种均匀性的多弧离子镀膜设备，包括多弧靶、真空室、设置在真空室内的路轨和架体；所述的架体上设有支撑件、中心轴、回转盘；用于支撑架体的支撑件移动式地安装在路轨上，回转盘套装在中心轴上，回转盘上设有相对回转盘转动的自转轴，自转轴上设有夹具，安装在真空室上的多弧靶朝向夹具。镀膜设备还包括直线驱动机构，真空室上设有第二密封装置，所述的直线驱动机构穿过第二密封装置与架体相接。所述的液压缸穿过第二密封装置连接在伸出臂上，液压缸的活塞杆的端部设有用于抓紧伸出臂的抓爪。本发明能实现工件镀膜均匀度的修正，提高了产品整体的品质，属于真空镀膜的技术领域。

主权项

1.一种均匀性的多弧离子镀膜设备，其特征在于：包括多弧靶、真空室、设置在真空室内的路轨和架体；所述的架体上设有支撑件、中心轴、回转盘；用于支撑架体的支撑件移动式地安装在路轨上，回转盘套装在中心轴上，回转盘上设有相对回转盘转动的自转轴，自转轴上设有夹具，安装在真空室上的多弧靶朝向夹具；镀膜设备还包括直线驱动机构，真空室上设有第二密封装置，所述的直线驱动机构穿过第二密封装置与架体相接；镀膜设备还包括回转驱动机构，所述的回转驱动机构通过公转组件驱动回转盘转动，回转驱动机构通过自转组件驱动自转轴相对回转盘转动；所述的回转驱动机构包括传动轴、用于驱动传动轴转动的电机、转动轴；所述的传动轴上设有咬合凹盘，随架体移动的转动轴上设有与咬合凹盘相适应的咬合凸盘，所述的转动轴通过公转组件驱动回转盘转动，所述的转动轴通过自转组件驱动自转轴相对回转盘转动；所述的传动轴上设有弹簧，套装在传动轴上的弹簧的一端固定在咬合凹盘上，另一端固定在传动轴上；所述的咬合凹盘滑动式地安装在传动轴上。