[发明专利]一种平面螺旋电感的新型制作方法有效

专利信息
申请号: 201610499863.7 申请日: 2016-06-29
公开(公告)号: CN106129047B 公开(公告)日: 2018-11-06
发明(设计)人: 杨静;张富强;孟美玉;李光北;王碧 申请(专利权)人: 北京时代民芯科技有限公司;北京微电子技术研究所
主分类号: H01L23/64 分类号: H01L23/64;B81C1/00
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 杨春颖
地址: 100076 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种平面螺旋电感的新型制作方法,采用玻璃或石英衬底进行平面螺旋电感的制作;采用MEMS技术,包括金属薄膜淀积工艺、介质层薄膜淀积工艺、厚金属层电镀工艺、厚胶光刻工艺、刻蚀工艺等实现平面螺旋电感的制作;平面螺旋电感与衬底之间不需要厚的绝缘层进行隔离;平面螺旋电感的平面形状、线圈厚度不受限制。本发明通过在玻璃或石英衬底上,利用MEMS技术实现平面螺旋电感的制作,避免了高频时线圈与衬底间的耦合和趋肤效应,能够实现高Q值的电感,同时电感线圈的金属层厚度不受限制,使得线圈的损耗低。工艺简单,能够满足信号隔离器、平面天线、微波基带线、平面螺旋电感谐振器等多种领域的需求,降低了工艺难度。
搜索关键词: 一种 平面 螺旋 电感 新型 制作方法
【主权项】:
1.一种平面螺旋电感的制作方法,其特征在于步骤如下:(1)选用玻璃或石英作为衬底材料,在石英或玻璃衬底上形成金属导线;(2)在步骤(1)的衬底和金属导线上同时形成中间绝缘层(03),然后利用光刻和刻蚀工艺,在中间绝缘层(03)上形成金属导线引线孔(031、032);(3)利用金属薄膜淀积工艺在步骤(2)的中间绝缘层(03)和金属导线引线孔(031、032)的表面上形成金属薄膜种子层;(4)利用MEMS厚胶光刻工艺,用光刻胶作为模版,在步骤(3)金属薄膜种子层上形成螺旋金属线圈(04)和信号输入/输出端图形的光刻胶模版,在形成螺旋金属线圈(04)和信号输入/输出端图形上露出金属薄膜种子层;(5)在步骤(4)的光刻胶模版上露出金属薄膜种子层的位置,利用电镀工艺进行镀金,然后去除光刻胶模版,利用刻蚀工艺去除步骤(3)的金属薄膜种子层,形成螺旋金属线圈(04)和信号输入/输出端(041、042),其中,信号输入/输出端(041、042)中的一个信号输入/输出端(041)接触金属导线引线孔(031、032)中的一个金属导线引线孔(031),然后在惰性气体保护中,对螺旋金属线圈(04)和信号输入/输出端(041、042)进行合金处理;(6)利用介质层淀积工艺在步骤(5)合金处理后的螺旋金属线圈(04)、中间绝缘层(03)上淀积钝化层(05);(7)利用光刻和刻蚀工艺,用光刻胶作为掩膜,在步骤(6)的钝化层(05)上光刻形成螺旋金属线圈引线孔(051、052),从螺旋金属线圈引线孔(051、052)露出信号输入/输出端(041、042)中的另一个信号输入/输出端(042)和金属导线引线孔(031、032)中的另一个金属导线引线孔(032),最后去掉光刻胶,完成平面螺旋电感的制作;(8)采用机械或激光切割方式,对圆片(01)沿着设定的划片道(102)进行划片,分隔出单个平面螺旋电感芯片(101)。
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