[发明专利]在硅片上制备均匀微纳复合绒面的方法有效
申请号: | 201610500930.2 | 申请日: | 2016-06-30 |
公开(公告)号: | CN106206774B | 公开(公告)日: | 2018-03-30 |
发明(设计)人: | 袁丽娟;杨立功 | 申请(专利权)人: | 常州时创能源科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 213300 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种在硅片上制备均匀微纳复合绒面的方法,包括制绒,以及制绒后的清洗;所述制绒包括将硅片置于制绒液中,在预定温度浸泡预定时间,得到具有微纳复合绒面的硅片;所述制绒液由铜离子源、氢氟酸、氧化剂、表面活性剂和去离子水组成;所述制绒后的清洗包括对硅片进行制绒后的清洗,除去硅片表面残留的金属纳米颗粒。本发明可通过一步溶液法在无损伤或低损伤硅片上制备均匀的微纳复合绒面。 | ||
搜索关键词: | 硅片 制备 均匀 复合 方法 | ||
【主权项】:
在硅片上制备均匀微纳复合绒面的方法,其特征在于,包括:制绒,以及制绒后的清洗;所述制绒包括:将硅片置于制绒液中,在30~70℃浸泡1~30min,得到具有微纳复合绒面的硅片;所述制绒后的清洗包括:对硅片进行制绒后的清洗,除去硅片表面残留的金属纳米颗粒;所述制绒液由0.1~60mmol/L铜离子源、0.05~20mol/L氢氟酸、0.01~5mol/L氧化剂、0.001μmol/L~10mmol/L表面活性剂和去离子水组成;所述铜离子源选自氯化铜和硫酸铜;所述氧化剂选自过硫酸盐、硝酸、过硫酸氢盐、硝酸盐、焦磷酸盐、磷酸盐;所述表面活性剂选自磺酸盐类表面活性剂、硫酸酯盐类表面活性剂、聚丙烯酸‑丙烯酰胺‑磺酸盐聚合物、聚吡咯烷酮、季铵盐类表面活性剂、咪唑啉季铵盐、吡咯烷酮、氨基酸类表面活性剂、氧化胺类表面活性剂、乙二胺四乙酸、烷基醇酰胺;所述磺酸盐类表面活性剂选自脂肪酸甲酯磺酸钠、烷基二苯醚二磺酸盐、椰油基羟基乙烷磺酸盐;所述硫酸酯盐类表面活性剂选自月桂醇硫酸酯钠、月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠、甘油单酸酯二硫酸钠;所述聚丙烯酸‑丙烯酰胺‑磺酸盐聚合物选自丙烯酸‑丙烯酸酯‑磺酸盐三元共聚物、丙烯酸‑2‑丙烯酰胺‑2‑甲基丙磺酸盐共聚物;所述聚吡咯烷酮选自聚乙烯吡咯烷酮、乙烯基吡咯烷酮‑乙烯酯共聚物;所述季铵盐类表面活性剂选自双十六烷基二甲基溴化铵、二甲基十八烷基氯化铵、聚二甲基二烯丙基氯化铵、甲基三辛基氯化铵;所述咪唑啉季铵盐选自单咪唑啉季铵盐、双咪唑啉季铵盐;所述吡咯烷酮选自2‑吡咯烷酮、N‑辛基吡咯烷酮、N‑乙烯基吡咯烷酮、N‑十六烷基吡咯烷酮、1‑甲基‑2‑吡咯烷酮;所述氨基酸类表面活性剂选自十二烷基二亚甲基氨基二甲酸钠、十二烷基氨基丙酸钠;所述氧化胺类表面活性剂选自十二烷基二甲基氧化胺、月桂酰基丙基氧化胺、椰油酰胺丙基氧化胺;所述烷基醇酰胺选自月桂酰二乙醇胺、N,N‑双羟乙基十二烷基酰胺、十二烷基醇酰胺。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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